Добавлен: 06.02.2019
Просмотров: 15945
Скачиваний: 9
126
а
б
Рис. 93. СТМ изображение (а) и квазитопографическое изображение сдвига фаз dI/dU
(б) для объекта, обнаруженного на поверхности высокоориентированного пирографи-
та после неудачных попыток электроосаждения кластеров меди.
Основным источником информации о микроструктуре для материалов, представ-
ленных выше, все равно остается топографическое изображение. Измерение дифферен-
циальных спектроскопических карт лишь в незначительной мере дополняет и расширя-
ет представления об их строении. Однако в целом ряде случаев топографическое изо-
бражение не несет (и не может нести) никакой существенной информации об иссле-
дуемом образце. Эта ситуация реализуется, например, при изучении шлифов керамиче-
ских гетерогенных материалов (подробно эти материалы будут обсуждаться в главе 3)
(рис. 94). Топографическое изображение для таких материалов характеризует, как пра-
вило, лишь качество полировки поверхности. В некоторых случаях удается визуализи-
ровать глубокие поры, что, однако, проще сделать с использованием метода скани-
рующей электронной микроскопии. Лишь при картировании в дифференциальном ре-
жиме удается однозначно установить существенное различие свойств материала (его
проводимости) в различных точках поверхности (рис. 94). Измерения локальных вольт-
амперных кривых на участках поверхности с различным дифференциальным контра-
стом (рис. 95) подтверждают, что темные области на рис 94в (светлые — на рис. 94б)
отвечают полупроводниковому материалу с существенно более высокой проводимо-
стью n-типа. Взаимное расположение областей позволяет заключить, что керамика со-
стоит из крупных зерен, имеющих высокую проводимость, разделенных межзеренными
прослойками толщиной в несколько сот нанометров, характеризующимися существен-
но более низкой проводимостью. При этом проводимость в межзеренных областях
имеет более симметричный характер. Специального исследования для определения ло-
кальности дифференциального картирования не проводилось. Тем не менее, на кадрах,
измеренных с большим увеличением (рис. 96) хорошо видно, что фронт изменения фа-
зы при переходе от участка керамики с более высокой проводимостью к менее прово-
дящему материалу очень резкий. Таким образом, для данного материала, локальность
127
метода дифференциального картирования не хуже 4–10 нм, что существенно превыша-
ет локальность, достижимую в таких методах, как conducting probe AFM, electrostatic
force microscopy, Kelvin probe force microscopy, которые, как правило, используются
для исследования локальной неоднородности и локальной проводимости подобных ма-
териалов.
a
б
в
Рис. 94. Результаты сканирования в дифференциальном режиме поверхности шлифа
керамики SnO
2
+1.5%CuO+1.5%Sb
2
O
3
(см. раздел 3.1). a — топография поверхности,
б — величина |dI/dU|, в — сдвиг фаз между током и напряжением.
-1.0
-0.5
0.0
0.5
1.0
-20
-15
-10
-5
0
5
10
I
ту
н
, н
A
U
тун
, В
1
2
3
4
5
Рис. 95. Локальные туннельные вольтамперные зависимости, измеренные в различ-
ных точках, отвечающих зернам и межзеренным областям на поверхности образца ке-
рамики (рис. 94).
Выше основное внимание было уделено дифференциальным спектрам dI/dU, так
как они, формально, должны позволять получить информацию об электронной струк-
туре и свойствах исследуемого материала. Токвысотные и вольтвысотные спектры в
большинстве случаев характеризуют структуру туннельного зазора в целом, наличие в
нем примесей или конденсированной жидкой фазы. Однако, как показывают измерения
локальных спектров (см. предыдущий раздел), форма и наклон вольтвысотной зависи-
мости также в существенной мере зависит от свойств материала образца (его деформи-
руемости, проводимости). Действительно, при исследовании гетерогенного композици-
онного материала Pd/полиэтиленгликоль (рис. 97) наблюдается существенный контраст
128
на дифференциальных картах. Полиэтиленгликоль представляет собой «мягкую» пло-
хопроводящую фазу, которая должна характеризоваться большим перепадом высот на
вольтвысотных зависимостях, и, следовательно, высоким значением dH/dU. Для метал-
лических частиц в составе композиции, наоборот, величина dH/dU должна быть неве-
лика. Действительно, на амплитудной карте (рис. 97б) наблюдаются четкие темные
участки, отвечающие металлическим частицам. Следует подчеркнуть, что, как и в слу-
чае dI/dU, лучший контраст наблюдается на дифференциальной карте сдвига фаз (ин-
вертированный контраст), а не на амплитудной карте. Для данного материала инфор-
мация, получаемая в режиме дифференциального картирования, также является очень
существенной, так как топографическое изображение не позволяет однозначно разли-
чить фрагменты, состоящие из различных фаз. Возможности использования разностно-
го картирования величины
/
H
U
∆
∆
для выделения областей, имеющих различную
деформируемость (на примере кристаллических и аморфных частиц), были ранее про-
демонстрированы в [209].
Рис. 96. Дифференциальные карты сдвига фаз между током и напряжением, измерен-
ные на образце керамики (рис. 94) с большим увеличением и сечения вдоль направле-
ния сканирования.
129
a
б
в
Рис. 97. Топографическое изображение (а) и дифференциальные карты амплитуды (б)
и сдвига фаз (в) величины dH/dU, зарегистрированные для образца композиционного
материала Pd/полиэтиленгликоль (см. раздел 4.1).
Чувствительность величины dI/dH к параметрам материала не слишком велика,
что хорошо видно на изображениях, полученных для композиционного материала
Pd/полиэтиленгликоль с небольшим содержанием полимера (рис. 98). На дифференци-
альных картах преобладает контраст, связанный с топографическим рельефом. Лишь в
правом нижнем углу наблюдается несколько областей, характеризующихся меньшей
величиной наклона dI/dH (рис. 98б), и, следовательно, более высоким содержанием по-
лиэтиленгликоля. Появление контраста, связанного с геометрическим рельефом, наи-
более четко прослеживается при дифференциальном картировании величины dH/dU
(рис. 99), что является закономерным (см. рис.76). Это свойство дифференциальных
спектров может быть использовано для идентификации областей топографических изо-
бражений, структура которых существенно искажена неидеальностью формы острия
зонда, и в перспективе, возможно, найдет применение для оценки геометрии зонда и
коррекции получаемых топографических СТМ-изображений.
a
б
в
Рис. 98. Топографическое изображение (а) и дифференциальные карты амплитуды (б)
и сдвига фаз (в) величины dI/dH, зарегистрированные для образца композиционного
материала Pd/полиэтиленгликоль (см. раздел 4.1).
130
a
б
Рис. 99. Топографическое изображение (а) и дифференциальная карта амплитуды (б)
величины dH/dU, зарегистрированные для образца коммерческого ITO.
2.3. Искажение топографических данных, связанное с не идеальностью
формы зонда в условиях нелокального переноса электрона
С самого момента изобретения метода сканирующей туннельной микроскопии (а
затем и атомно-силовой микроскопии) стало очевидно, что геометрическая форма зон-
да существенно влияет на вид получаемых топографических изображений и на дости-
гаемое в эксперименте разрешение [595]. Поэтому разработки подходов и математиче-
ских методов для оценки формы зонда и коррекции изображений были начаты более 20
лет назад. Нужно сразу подчеркнуть, что большинство подобных работ ориентированы
на атомно-силовую микроскопию, как в связи с ее большей распространенностью, так и
в связи с тем, что АСМ-кантеливеры имеют, как правило, существенно большие радиу-
сы кривизны, чем более острые СТМ-зонды, поэтому для них эта проблема особенно
актуальна. Наиболее очевидным решением этой проблемы является использование тес-
товых образцов с известной геометрией, в качестве которых могут использоваться ка-
либровочные структуры, получаемые травлением кремния [596, 597] или «выращивае-
мые» под воздействием импульса напряжения в туннельном зазоре [598]. Широкое рас-
пространение получило использование для определения формы острия зонда иммоби-
лизованных коллоидных частиц (или сферических частиц большего диаметра) [599–
604]. В отличие от наноструктур с характерными размерами в сотни или тысячи нано-
метров, получаемых травлением, коллоидные частицы позволяют осуществлять «ка-
либровку» непосредственно геометрии острия и оценивать искажения, наблюдаемые
при исследовании объектов сопоставимых размеров (десятки нанометров). Для многих
систем загрязнение, износ, деформация острия зонда в процессе подвода и сканирова-
ния делает невозможным использование отдельных калибровочных образцов для пред-
варительного определения его профиля. Поэтому для решения этой задачи действую-
щим стандартом стал метод «слепой» реконструкции (blind reconstruction) профиля