Файл: Решение Концентрация собственных носителей заряда n i имеет сильную температурную зависимость и определяется как.docx

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 04.02.2024

Просмотров: 10

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Контрольная работа
По дисциплине: Оптоэлектроника и интегральная оптика

ОЭиИО


Фамилия:

Имя:

Отчество:

зачетной книжки

Группа №:

Проверил: _____________


Санкт-Петербург

2023

Задача 1

Условие: Найти, чему равна собственная концентрация свободных носителей заряда в кремнии Si, германии Ge и арсениде галлия GaAs при

комнатной температуре T = 300K и температуре жидкого азота T = 77 K.

Решение: Концентрация собственных носителей заряда ni имеет сильную температурную зависимость и определяется как:



где эффективная плотность состояний в C и V зонах Nc,v также зависит от температуры T и эффективной массы носителей заряда в зоне m*:



Ширина запрещенной зоны Eg имеет слабую зависимость от температуры типа Eg =Egо – αТ. Величины Egо и α приведены в таблице "Свойства полупроводников при Т=300 К", там же можно найти величины Nc и Nv . Расчет значений эффективной плотности состояний в C и V зонах и концентрации собственных носителей заряда ni при температуре жидкого азота 77 K приводится ниже.




Si

Ge

GaAs

Nc, см-3

3.6 × 1018

1.4 × 1019

5.8 × 1016

Nv,cм-3

1.4 × 1018

6.9 × 1018

9.8 × 1017

ni,см-3

3 × 10-20

1.4 × 10-7

2.8 × 10-33


Задача 2

Условие: Кремний Si и арсенид галлия GaAs легированы донорной примесью до концентрации ND = 1017 см-3. Считая примесь полностью ионизованной, найти концентрацию основных и неосновных носителей заряда при температуре Т = 300 K.

Решение:

Примесь полностью ионизована, когда концентрация равновесных электронов равна концентрации легирующей примеси n
0=ND. Из основного соотношения для полупроводников: n0 × p0=ni2. Найдем концентрацию неосновных носителей заряда: p0=ni2/n0.

Для Si: .

Для GaAs: .

Задача 3

Условие: Рассчитать объемное положение уровня Ферми φ0 относительно

середины запрещенной зоны в собственных полупроводниках – кремнии

Si и антимониде индия InSb при температурах T1 = 300 K и T2 = 77 K (с

учетом различных значений эффективных масс электронов и дырок).

Решение:

В собственном полупроводнике n0 = p0, и положение уровня Ферми относительно середины запрещенной зоны полупроводника φ0 можно рассчитать как:





φ0, (эВ)

300 K

77 K

Si

-0.0124 эВ

-0,0032 эВ

InSb

+0,074 эВ

+0,019 эВ

Таким образом, в кремнии уровень Ферми лежит ниже, а в антимониде индия выше середины запрещенной зоны полупроводника Ei.



Зонная диаграмма полупроводника, когда: φ0>0, m*p>m*e.

Задача 4

Условие: Полупроводники кремний Si, германий Ge и арсенид галлия GaAs

легированы донорной примесью до концентрации

ND = 1015 см-3.

Найти граничную температуру Тгр, при которой собственная концентрация носителей заряда ni еще ниже концентрации основных носителей заряда n0.

Решение:

Известно, что Eg и Nc,v зависят от температуры. Для оценки граничной температуры пренебрежем этим фактом. Тогда, учитывая, что n0=ND и n0=ni, после преобразования получим:






Si

Ge

GaAs

Tгр 

668

439

1104

Тгр ,оС

395

166

831


Задача 5

Условие: Образец арсенида галлия GaAs подвергается внешнему воздействию, в результате которого генерируется 1020 см-3 ·c-1 электронно-дырочных пар. Уровень легирования ND = 2·1015 см-3,

время жизни τ0 = 5·10-8 с, Т = 300 К.

Вычислить:

1. коэффициент рекомбинации;

2. избыточную концентрацию неосновных носителей заряда.

Решение:

Коэффициент рекомбинации r получим из соотношения:

G = R = r · n · p.

G = r · ( n + p ) = r·( n0 + Δn+ p0 + Δp ) = r · Δn· ( n0 + p0 ) = r · Δn · n0.

Отсюда имеем для:

r = ( G / Δn ) · ( 1 / τ0n0 ) =10–8 см3c–1,

избыточная концентрация электронов Δn = G · τ0 = 5 · 1012 см–3.