Файл: Министерство цифрового развития, связи и массовых коммуникаций российской федерации федеральное государственное бюджетное образовательное.doc

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 06.11.2023

Просмотров: 42

Скачиваний: 2

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Контрольная работа по Физическим основам электроники

МИНИСТЕРСТВО ЦИФРОВОГО РАЗВИТИЯ,

СВЯЗИ И МАССОВЫХ КОММУНИКАЦИЙ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ

ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ

УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ

«САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ТЕЛЕКОММУНИКАЦИЙ ИМ. ПРОФ. М.А. БОНЧ-БРУЕВИЧА»

(СПбГУТ)

ИНСТИТУТ НЕПРЕРЫВНОГО ОБРАЗОВАНИЯ

Кафедра Электроники и схемотехники

Дисциплина: Физические основы электроники

Контрольная работа

Фамилия: Коломыц

Имя: Денис

Отчество: Александрович

Группа №: РБ-11з

Проверил: Борисов С.В.

Санкт-Петербург

2023

Задание 1.

Исходные данные



варианта

Материал

полупроводника

Время t, мкc


Номер решаемой

задачи

20

Ge

2

1.9

Задача 1.9

Дано:

τ = 10-6 с − время жизни неравновесных электронов в полупроводнике,

находящемся под внешним воздействием,

t = 2 мкс.

Найти:

Относительное уменьшение концентрации избыточных электронов за время t после выключения внешнего воздействия

∆n(t)/∆n(0) = ?

Решение:
Концентрация неравновесных носителей заряда в полупроводнике после выключения внешнего воздействия зависит от времени по закону
1)

где ∆n(0) − концентрация неравновесных носителей заряда в момент времени t = 0 сразу после выключения внешнего воздействия,

τ − время жизни неравновесных носителей заряда в полупроводнике.


Тогда, для неравновесных электронов в германии (Ge), имеющих время жизни

τ = 10-6 с = 1 мкс,

находим из (1) относительное уменьшение концентрации избыточных электронов за время t = 2 мкс после выключения внешнего воздействия

2)

Ответ: 0,135

Задание 2.

Исходные данные



варианта

Материал

полупроводника

Диффузионная

длина электронов Ln, м

Диффузионная

длина дырок

Lp, см

Площадь

перехода

S, см2

Номер

решаемой

задачи

20

Si

0,045

0,03

0,001

2.7

Задача 2.7

Дано:

Материал полупроводника кремний (Si)

Концентрации атомов донорной и акцепторной примесей Nd = 1017 см-3

в областях полупроводника, образующих резкий p-n –переход Na= 1014 см-3

Площадь перехода равна S = 0,001 см2

Температура образца T = 300 K

Диффузионная длина электронов Ln = 0,045 cм

Диффузионная длина дырок Lp = 0,03 см

Обратное напряжение на переходе U=5 В
Найти:

Обратный тепловой ток перехода I0 и барьерную емкость перехода СБ при подаче на переход обратного напряжения u

Решение:

Тепловой обратный ток насыщения равен

I0 = SJ0 , 1)

где S= 0,001 см2 – площадь p-n перехода,

J0 – плотность тока насыщения.

Плотность тока насыщения определяется соотношением

J0 = e( Dp pn0 /Lp + Dn np0 /Ln) , 2)

где e = 1,6∙10-19 Кл – заряд электрона,

Dpи Dn – коэффициенты диффузии дырок и электронов [см2/с]:

для кремния Dp

= 13 см2/с , Dn= 36 см2/с;

Lp и Ln – длины диффузии дырок и электронов в областях, где они являются неосновными носителями [см],

pn0 и np0 – равновесные концентрации дырок и электронов в областях, где они являются неосновными носителями заряда:

pn0 = ni2 /nn0 = ni2 /Nd , 3)

np0 = ni2 / pp0 = ni2 /Na , 4)

где ni = 1,5∙1010 см-3 − собственная концентрация носителей заряда в кремнии,

Nd = 1017 см-3 и Na= 1014 см-3 − концентрации атомов донорной и акцепторной примесей в областях полупроводника, образующих резкий p-n –переход.

Тогда

pn0 = ni2 /Nd = (1,5∙1010)2 /1017 = 2,25∙103 см-3 ,

и np0 = ni2 /Na = (1,5∙1010)2 / 1014 = 2,25∙106 см-3 .

Подставляя в (4) исходные данные длин диффузии дырок Lp = 0,03 см и электронов

Ln= 0,045 см , находим плотность тока насыщения диода

J0 = q( Dp pn0 /Lp + Dn np0 /Ln) =

= 1,6∙10-19 ∙ (13∙2,25∙103/0,03 + 36∙2,25∙106/0,045) = 2,9∙10-10 А/см2 . 8)

Тепловой обратный ток насыщения I0 равен

I0 = SJs = 0,001∙2,9∙10-10 = 2,9∙10-13 А = 0,29 пА .

Барьерную емкость резкого p-n перехода определим по формуле

9)

где – барьерная емкость при нулевом смещении на переходе (U = 0),

U– напряжение обратного смещения на переходе,

φk – контактная разность потенциалов p-n перехода:


φk = φTln(Na Nd /ni2 ), 10 )

где температурный потенциал

φT = kT/e = 1,38∙10-23∙300/(1,6∙10-19) = 2,59∙10-2 В при температуре T = 300 К,

ni = 1,5∙1010 см-3 − собственная концентрация носителей заряда в кремнии,

Nd = 1017 см-3 и Na= 1014 см-3 − концентрации атомов донорной и акцепторной примесей в областях полупроводника, образующих резкий p-n -переход,

e = 1,6∙10-19 Кл – элементарный заряд,

ε = 11,9 – диэлектрическая проницаемость кремния,

ε0 = 8,85∙10-14 Ф/см – диэлектрическая постоянная,

S= 0,001 см2 – площадь p-n перехода,

Nб – концентрация атомов примеси базы − области с меньшей концентрацией примеси:

Nб = Na= 1014 см-3.

Контактная разность потенциалов p-n перехода равна

φk= φTln(NaNd /ni2 ) = 2,59∙10-2ln[1014∙1017/ (1,5∙1010)2 ] = 0,635 В.

Барьерная емкость при нулевом смещении на p-n переходе равна

= 3,64∙10-12 Ф = 3,64 пФ.

Барьерная емкость при обратном смещении на p-n переходе напряжения U= 5 В



Ответ: 0,29 пА; 1,22 пФ.

Задание 3.

Исходные данные



варианта

Удельная

крутизна

b, мА/В2


Пороговое

напряжение

Uпор, В


Напряжения между

электродами

Uси, В


Номер

решаемой

задачи


20

11,0


6,0

9,0

3.5


Задача 3.5

Дано:

Тип полевого транзистора с каналом n-типа

Схема включения по схеме ОИ

Удельная крутизна b = 11,0 мА/В2

Пороговое напряжение Uпор = 6,0 В

Напряжение между электродами Uси = 9,0 В

Диапазон изменения тока Iс = 0...20 мА

Найти:

Рассчитать и построить на графике управляющую характеристики транзистора

Iс = Iс(Uзи).

Расчеты выполнить в диапазоне изменения напряжения
Uзи, соответствующем

изменению тока Iс

Решение:

В полевом транзисторе с каналом n-типа ток стока имеет зависимость в пологой области выходной характеристики

1)

где UСИнас = UЗИUПОР напряжение насыщения сток-исток,

b − удельная крутизна, мА/В2,

и ток стока

IC = 0 при UЗИ < UПОР . 2)

Перепишем (1) в виде

3)

тогда условие UСИ> UСИ нас выполняется,

если

4)

то есть, для тока стока в диапазоне

Iс = 0...20 мА

полевой транзистор находится в области насыщения (пологая область), и зависимость тока стока Iс = Iс(Uзи) определяется формулой (1).

Для максимального значения тока стока Iс = 20 мА значение напряжения затвор-исток

5)

По формуле (1), с учетом (2), проведем расчет зависимости тока стока Iс = Iс(Uзи) в диапазоне напряжения затвор-исток

Uзи = 0…8 В.

Результаты расчета представлены в таблице 1, а график зависимости Iс = Iс(Uзи) представлен на Рис.1.

Таблица 1. Передаточная ВАХ полевого транзистора (b = 11,0 мА/В2, Uпор = 6,0 В)

UЗ, В

IС , мА

0

1

2

3

4

5

6

6,25

6,5

6,75

7

7,25

7,5

7,75

8




0

0

0

0

0

0

0

0,34375

1,375

3,09375

5,5

8,59375

12,375

16,84375

22