Файл: Министерство цифрового развития, связи и массовых коммуникаций российской федерации федеральное государственное бюджетное образовательное.doc
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 06.11.2023
Просмотров: 138
Скачиваний: 4
Контрольная работа по Физическим основам электроники
| № варианта | Материал полупроводника | Время t, мкc | Номер решаемой задачи |
| 20 | Ge | 2 | 1.9 |
Тогда, для неравновесных электронов в германии (Ge), имеющих время жизни τ = 10-6 с = 1 мкс,находим из (1) относительное уменьшение концентрации избыточных электронов за время t = 2 мкс после выключения внешнего воздействия2)Ответ: 0,135Задание 2.Исходные данные
| № варианта | Материал полупроводника | Диффузионная длина электронов Ln, м | Диффузионная длина дырок Lp, см | Площадь перехода S, см2 | Номер решаемой задачи |
| 20 | Si | 0,045 | 0,03 | 0,001 | 2.7 |
= 13 см2/с , Dn= 36 см2/с;
Lp и Ln – длины диффузии дырок и электронов в областях, где они являются неосновными носителями [см],
pn0 и np0 – равновесные концентрации дырок и электронов в областях, где они являются неосновными носителями заряда:
pn0 = ni2 /nn0 = ni2 /Nd , 3)
np0 = ni2 / pp0 = ni2 /Na , 4)
где ni = 1,5∙1010 см-3 − собственная концентрация носителей заряда в кремнии,
Nd = 1017 см-3 и Na= 1014 см-3 − концентрации атомов донорной и акцепторной примесей в областях полупроводника, образующих резкий p-n –переход.
Тогда
pn0 = ni2 /Nd = (1,5∙1010)2 /1017 = 2,25∙103 см-3 ,
и np0 = ni2 /Na = (1,5∙1010)2 / 1014 = 2,25∙106 см-3 .
Подставляя в (4) исходные данные длин диффузии дырок Lp = 0,03 см и электронов
Ln= 0,045 см , находим плотность тока насыщения диода
J0 = q( Dp pn0 /Lp + Dn np0 /Ln) =
= 1,6∙10-19 ∙ (13∙2,25∙103/0,03 + 36∙2,25∙106/0,045) = 2,9∙10-10 А/см2 . 8)
Тепловой обратный ток насыщения I0 равен
I0 = S∙Js = 0,001∙2,9∙10-10 = 2,9∙10-13 А = 0,29 пА .
Барьерную емкость резкого p-n перехода определим по формуле
9)
где
– барьерная емкость при нулевом смещении на переходе (U = 0),
U– напряжение обратного смещения на переходе,
φk – контактная разность потенциалов p-n перехода:
φk = φTln(Na Nd /ni2 ), 10 ) где температурный потенциал φT = kT/e = 1,38∙10-23∙300/(1,6∙10-19) = 2,59∙10-2 В при температуре T = 300 К,ni = 1,5∙1010 см-3 − собственная концентрация носителей заряда в кремнии,Nd = 1017 см-3 и Na= 1014 см-3 − концентрации атомов донорной и акцепторной примесей в областях полупроводника, образующих резкий p-n -переход,e = 1,6∙10-19 Кл – элементарный заряд,ε = 11,9 – диэлектрическая проницаемость кремния,ε0 = 8,85∙10-14 Ф/см – диэлектрическая постоянная, S= 0,001 см2 – площадь p-n перехода, Nб – концентрация атомов примеси базы − области с меньшей концентрацией примеси:Nб = Na= 1014 см-3. Контактная разность потенциалов p-n перехода равнаφk= φTln(NaNd /ni2 ) = 2,59∙10-2 ∙ ln[1014∙1017/ (1,5∙1010)2 ] = 0,635 В.Барьерная емкость при нулевом смещении на p-n переходе равна = 3,64∙10-12 Ф = 3,64 пФ.Барьерная емкость при обратном смещении на p-n переходе напряжения U= 5 ВОтвет: 0,29 пА; 1,22 пФ.Задание 3.Исходные данные
| № варианта | Удельная крутизна b, мА/В2 | Пороговое напряжение Uпор, В | Напряжения между электродами Uси, В | Номер решаемой задачи |
| 20 | 11,0 | 6,0 | 9,0 | 3.5 |
Uзи, соответствующемизменению тока IсРешение:В полевом транзисторе с каналом n-типа ток стока имеет зависимость в пологой области выходной характеристики 1)где UСИнас = UЗИ – UПОР −напряжение насыщения сток-исток,b − удельная крутизна, мА/В2,и ток стока IC = 0 при UЗИ < UПОР . 2) Перепишем (1) в виде 3)тогда условие UСИ> UСИ нас выполняется, если 4)то есть, для тока стока в диапазоне Iс = 0...20 мА полевой транзистор находится в области насыщения (пологая область), и зависимость тока стока Iс = Iс(Uзи) определяется формулой (1). Для максимального значения тока стока Iс = 20 мА значение напряжения затвор-исток 5)По формуле (1), с учетом (2), проведем расчет зависимости тока стока Iс = Iс(Uзи) в диапазоне напряжения затвор-исток Uзи = 0…8 В.Результаты расчета представлены в таблице 1, а график зависимости Iс = Iс(Uзи) представлен на Рис.1.Таблица 1. Передаточная ВАХ полевого транзистора (b = 11,0 мА/В2, Uпор = 6,0 В)
-
UЗ, В
IС , мА
0
1
2
3
4
5
6
6,25
6,5
6,75
7
7,25
7,5
7,75
8
0
0
0
0
0
0
0
0,34375
1,375
3,09375
5,5
8,59375
12,375
16,84375
22