ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 04.04.2025

Просмотров: 340

Скачиваний: 2

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

где Js – плотность тока насыщения:

q Dn np

q Dp

pn

2

D

Dp

(1.15)

J

J

J

q n

n

s

sn

sp

L

L

p

i

L

p

p

L

p

n

n

n

n

Умножив плотность тока на площадь p-n-перехода S, получим ток

через диод:

I = Is eU T

1 .

(1.16)

При U > 0

ток экспоненциально растет с ростом напряжения, при

U < 0 exp U Т

<<1, следовательно,

ток через

p-n-переход равен току

насыщения.

Формула (1.16) описывает ВАХ идеализированного p-n-перехода. В реальных диодах напряжение падает не только на ОПЗ, но и на слаболегированной области диода – базе:

U T ln I

I S 1 I rБ .

(1.17)

Сопротивление базы

r

1

lБ U

Б

S

При обратном смещении ток через диод увеличивается из-за генерации электронно-дырочных пар в ОПЗ, при прямом смещении рекомбинация носителей в ОПЗ увеличивает общий ток. Плотность тока рекомбинации-генерации носителей заряда в ОПЗ:

J RG 0

(U )

q ni

W (U )

,

(1.18)

eff

где W (U ) – ширина ОПЗ, а eff – эффективное время жизни носителей заряда:

ln

p

.

eff

n

p

(1.19)

n

Для многих практических случает можно использовать следующие формулы:

– прямое смещение p-n-перехода:

пр

n p ,

(1.20)

– обратное смещение p-n-перехода:

обр n p .

(1.21)

8


Ширина ОПЗ согласно зависит от смещения. Для ступенчатого p-n- перехода ширина ОПЗ:

W U

2

0 s

U

N d

Na

,

(1.22)

q

k

N d

Na

где ε0 – электрическая постоянная (ε0 = 8,854∙10 –14 Ф/см),

s – относительная диэлектрическая проницаемость материала.

Влияние эффектов высокого уровня инжекции тоже искажает ВАХ. Прямая ветвь ВАХ диода показана на рисунках 1.5, 1.6.

Рис. 1.5. ВАХ с учетом

Рис. 1.6. Прямая ветвь ВАХ

сопротивления базы в

полупроводникового диода в

линейном масштабе

полулогарифмическом масштабе

Кроме того, вследствие саморазогрева прибора (выделение мощности I∙U) растет температура, и меняются параметры p-n-перехода (см. Лабораторную работу №2). При приложении большого обратного напряжения происходит пробой из-за лавинного увеличения количества носителей заряда в ОПЗ или из-за туннелирования электронов через ОПЗ. Он может перейти в тепловой пробой, ведущий к необратимому изменению характеристик.

Согласно идеализированной теории p-n-перехода I ~ exp U Т . При изменении тока в 10 раз (на декаду) напряжение получает приращение U = 2,3 Т . Путем экстраполяции прямой ветви ВАХ идеализированного p-n-перехода, построенной в полулогарифмическом масштабе (рисунок 1.6), к напряжению U = 0 можно найти значение тока насыщения Is. В области малых напряжений наклон ВАХ кремниевых диодов может быть меньше и определяться показателем экспоненты U/(m Т ). Если наклон соответствует коэффициенту m = 2, то преобладающим механизмом, определяющим протекание тока в диоде, считаются процессы генерации и рекомбинации носителей

9


заряда в ОПЗ, что позволяет экстраполяцией участка с наклоном U/(2 Т ) найти значение тока Irg 0 .

При домашней подготовке необходимо ознакомиться с типами р-n- переходов, изучить принцип работы полупроводникового диода, рассмотреть особенности ВАХ реальных диодов.

Предварительное расчетное задание

1.Провести расчет υk, Is и rб диодов.

2.Рассчитать и построить ВАХ идеального диода и ВАХ реального диода при температуре 300 K в одной системе координат.

Данные к расчету

Взять из задания к типовому расчету согласно номеру в журнале

Рабочее задание

1.Получить у преподавателя диод, отметить в протоколе материал, из которого сделан диод.

2.Измерить прямую и обратную ветви ВАХ диодов при масштабах ±5 В по напряжению и ±5 или ±15 мА, результаты занести в таблицы.

3.Отдельно промерить обратную ВАХ диода при масштабе ±100 В.

4.Построить графики ВАХ диодов в линейных масштабах по осям.

5.По усмотрению преподавателя, получить второй диод и повторить п. 1-4.

Анализ результатов измерений

1.Перестроив график прямой ветви ВАХ в полулогарифмическом масштабе, установить, есть ли на ней участок, соответствующий идеализированной теории p-n-перехода. Если такой участок есть, найти

значение тока насыщения Is. Если наклон в области малых напряжений соответствует коэффициенту m = 2, найти значение тока I +RG0.

2.По наклону прямолинейного участка прямой ветви ВАХ, построенной в линейном масштабе, приближенно найти значение сопротивления базы rб.

3.Графически оценить значение υk. При больших значениях прямого тока падение напряжения на ОПЗ приближается к значению

контактной разности потенциалов, т.е. U ≈ υk. Напряжение на диоде Uд=I rб+U, и, следовательно, при I = 0 на оси напряжений отсекается величина, приблизительно равная контактной разности потенциалов φk.

3. Сравнить экспериментально полученные ВАХ диодов с рассчитанными, объяснить различия.

Указания к отчету

Отчет должен содержать:

10


1.Титульный лист с названием работы, ф.и.о. студента и номер группы;

2.Расчет предварительного задания;

3.Схема измерения;

4.Таблицы экспериментальных данных и графики ВАХ диодов.

5.Результаты анализа результатов.

Контрольные вопросы

1.Какие заряды образуют ОПЗ?

2.От каких параметров полупроводникового диода зависит величина контактной разности потенциалов?

3.Что происходит с величиной потенциального барьера при подаче на р-n-переход прямого и обратного напряжений?

4.Нарисуйте и объясните зависимости распределения концентрации носителей от координаты при прямом и обратном смещении.

5.Нарисуйте и объясните ВАХ диодов.

11

Лабораторная работа № 2. Исследование температурной зависимости статических вольт-амперных характеристик

полупроводниковых диодов

Цель работы: приобретение навыков экспериментального исследования температурной зависимости ВАХ полупроводниковых диодов.

Повышение температуры приводит к росту собственной концентрации носителей:

Eg Т

n

N

c

Т N

v

Т exp

,

(2.1)

i

2kT

где Eg – ширина запрещенной зоны (Eg=Eс –Ev). Она зависит от

температуры:

Eg Eg 0 T.

(2.2)

Для Si Eg0=1,17 эВ, a=-3,9∙10-4 эВ/К, для Ge Eg0=0,785 эВ, a=-3,7∙10-4 эВ/К, для GaAs Eg0=1,52 эВ, a=-4,3∙10-4 эВ/К.

Это приводит к росту тока насыщения (рис 2.1),

q Dn T np T

q Dp T pn T

D

T

Dp T

js

jsn jsp

q ni2 T

n

.

(2.3)

L

T

L

T

L T p

L

T n

p

p

p

n

n

n

Рис. 2.1. Изменение ВАХ при повышении температуры

Таким образом, для расчета ВАХ при температуре Т необходимо рассчитать значение тока насыщения и сопротивления базы диода. Для этого необходимо рассчитать значения концентраций неосновных носителей заряда и подвижности носителей при заданной температуре. Температурная зависимость концентрации свободных носителей заряда n в полупроводнике легированном донорной примесью с концентрацией Nd показана на рисунке 2.2.

При низкой температуре (область 1) концентрация носителей повышается с ростом температуры за счет ионизации атомов примеси.

12