ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 04.04.2025
Просмотров: 340
Скачиваний: 2
где Js – плотность тока насыщения:
q Dn np |
q Dp |
pn |
2 |
D |
Dp |
(1.15) |
||||||||||||||||||
J |
J |
J |
q n |
n |
||||||||||||||||||||
s |
sn |
sp |
L |
L |
p |
i |
L |
p |
p |
L |
p |
n |
||||||||||||
n |
n |
n |
||||||||||||||||||||||
Умножив плотность тока на площадь p-n-перехода S, получим ток
через диод: |
|||
I = Is eU T |
1 . |
(1.16) |
|
При U > 0 |
ток экспоненциально растет с ростом напряжения, при |
||
U < 0 exp U Т |
<<1, следовательно, |
ток через |
p-n-переход равен току |
насыщения.
Формула (1.16) описывает ВАХ идеализированного p-n-перехода. В реальных диодах напряжение падает не только на ОПЗ, но и на слаболегированной области диода – базе:
U T ln I |
I S 1 I rБ . |
(1.17) |
|||||
Сопротивление базы |
r |
1 |
lБ U |
||||
Б |
S |
||||||
При обратном смещении ток через диод увеличивается из-за генерации электронно-дырочных пар в ОПЗ, при прямом смещении рекомбинация носителей в ОПЗ увеличивает общий ток. Плотность тока рекомбинации-генерации носителей заряда в ОПЗ:
J RG 0 |
(U ) |
q ni |
W (U ) |
, |
(1.18) |
|
eff |
||||||
где W (U ) – ширина ОПЗ, а eff – эффективное время жизни носителей заряда:
ln |
p |
. |
|||||||||
eff |
n |
p |
(1.19) |
||||||||
n |
|||||||||||
Для многих практических случает можно использовать следующие формулы:
– прямое смещение p-n-перехода: |
|||
пр |
n p , |
(1.20) |
|
– обратное смещение p-n-перехода: |
|||
обр n p . |
(1.21) |
||
8
Ширина ОПЗ согласно зависит от смещения. Для ступенчатого p-n- перехода ширина ОПЗ:
W U |
2 |
0 s |
U |
N d |
Na |
, |
(1.22) |
||||
q |
k |
N d |
Na |
||||||||
где ε0 – электрическая постоянная (ε0 = 8,854∙10 –14 Ф/см),
s – относительная диэлектрическая проницаемость материала.
Влияние эффектов высокого уровня инжекции тоже искажает ВАХ. Прямая ветвь ВАХ диода показана на рисунках 1.5, 1.6.
Рис. 1.5. ВАХ с учетом |
Рис. 1.6. Прямая ветвь ВАХ |
сопротивления базы в |
полупроводникового диода в |
линейном масштабе |
полулогарифмическом масштабе |
Кроме того, вследствие саморазогрева прибора (выделение мощности I∙U) растет температура, и меняются параметры p-n-перехода (см. Лабораторную работу №2). При приложении большого обратного напряжения происходит пробой из-за лавинного увеличения количества носителей заряда в ОПЗ или из-за туннелирования электронов через ОПЗ. Он может перейти в тепловой пробой, ведущий к необратимому изменению характеристик.
Согласно идеализированной теории p-n-перехода I ~ exp U Т . При изменении тока в 10 раз (на декаду) напряжение получает приращение U = 2,3 Т . Путем экстраполяции прямой ветви ВАХ идеализированного p-n-перехода, построенной в полулогарифмическом масштабе (рисунок 1.6), к напряжению U = 0 можно найти значение тока насыщения Is. В области малых напряжений наклон ВАХ кремниевых диодов может быть меньше и определяться показателем экспоненты U/(m Т ). Если наклон соответствует коэффициенту m = 2, то преобладающим механизмом, определяющим протекание тока в диоде, считаются процессы генерации и рекомбинации носителей
9
заряда в ОПЗ, что позволяет экстраполяцией участка с наклоном U/(2 Т ) найти значение тока Irg 0 .
При домашней подготовке необходимо ознакомиться с типами р-n- переходов, изучить принцип работы полупроводникового диода, рассмотреть особенности ВАХ реальных диодов.
Предварительное расчетное задание
1.Провести расчет υk, Is и rб диодов.
2.Рассчитать и построить ВАХ идеального диода и ВАХ реального диода при температуре 300 K в одной системе координат.
Данные к расчету
Взять из задания к типовому расчету согласно номеру в журнале
Рабочее задание
1.Получить у преподавателя диод, отметить в протоколе материал, из которого сделан диод.
2.Измерить прямую и обратную ветви ВАХ диодов при масштабах ±5 В по напряжению и ±5 или ±15 мА, результаты занести в таблицы.
3.Отдельно промерить обратную ВАХ диода при масштабе ±100 В.
4.Построить графики ВАХ диодов в линейных масштабах по осям.
5.По усмотрению преподавателя, получить второй диод и повторить п. 1-4.
Анализ результатов измерений
1.Перестроив график прямой ветви ВАХ в полулогарифмическом масштабе, установить, есть ли на ней участок, соответствующий идеализированной теории p-n-перехода. Если такой участок есть, найти
значение тока насыщения Is. Если наклон в области малых напряжений соответствует коэффициенту m = 2, найти значение тока I +RG0.
2.По наклону прямолинейного участка прямой ветви ВАХ, построенной в линейном масштабе, приближенно найти значение сопротивления базы rб.
3.Графически оценить значение υk. При больших значениях прямого тока падение напряжения на ОПЗ приближается к значению
контактной разности потенциалов, т.е. U ≈ υk. Напряжение на диоде Uд=I rб+U, и, следовательно, при I = 0 на оси напряжений отсекается величина, приблизительно равная контактной разности потенциалов φk.
3. Сравнить экспериментально полученные ВАХ диодов с рассчитанными, объяснить различия.
Указания к отчету
Отчет должен содержать:
10
1.Титульный лист с названием работы, ф.и.о. студента и номер группы;
2.Расчет предварительного задания;
3.Схема измерения;
4.Таблицы экспериментальных данных и графики ВАХ диодов.
5.Результаты анализа результатов.
Контрольные вопросы
1.Какие заряды образуют ОПЗ?
2.От каких параметров полупроводникового диода зависит величина контактной разности потенциалов?
3.Что происходит с величиной потенциального барьера при подаче на р-n-переход прямого и обратного напряжений?
4.Нарисуйте и объясните зависимости распределения концентрации носителей от координаты при прямом и обратном смещении.
5.Нарисуйте и объясните ВАХ диодов.
11
Лабораторная работа № 2. Исследование температурной зависимости статических вольт-амперных характеристик
полупроводниковых диодов
Цель работы: приобретение навыков экспериментального исследования температурной зависимости ВАХ полупроводниковых диодов.
Повышение температуры приводит к росту собственной концентрации носителей:
Eg Т |
||||||||||
n |
N |
c |
Т N |
v |
Т exp |
, |
(2.1) |
|||
i |
2kT |
|||||||||
где Eg – ширина запрещенной зоны (Eg=Eс –Ev). Она зависит от
температуры: |
|
Eg Eg 0 T. |
(2.2) |
Для Si Eg0=1,17 эВ, a=-3,9∙10-4 эВ/К, для Ge Eg0=0,785 эВ, a=-3,7∙10-4 эВ/К, для GaAs Eg0=1,52 эВ, a=-4,3∙10-4 эВ/К.
Это приводит к росту тока насыщения (рис 2.1),
q Dn T np T |
q Dp T pn T |
D |
T |
Dp T |
|||||||||||||||||
js |
jsn jsp |
q ni2 T |
n |
. |
(2.3) |
||||||||||||||||
L |
T |
L |
T |
L T p |
L |
T n |
|||||||||||||||
p |
p |
p |
|||||||||||||||||||
n |
n |
n |
|||||||||||||||||||
Рис. 2.1. Изменение ВАХ при повышении температуры
Таким образом, для расчета ВАХ при температуре Т необходимо рассчитать значение тока насыщения и сопротивления базы диода. Для этого необходимо рассчитать значения концентраций неосновных носителей заряда и подвижности носителей при заданной температуре. Температурная зависимость концентрации свободных носителей заряда n в полупроводнике легированном донорной примесью с концентрацией Nd показана на рисунке 2.2.
При низкой температуре (область 1) концентрация носителей повышается с ростом температуры за счет ионизации атомов примеси.
12