ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 17.04.2025

Просмотров: 260

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Лабораторная работа № 2

Исследование температурной зависимости статических вольтамперных характеристик полупроводниковых диодов

Цель работы: приобретение навыков экспериментального исследования температурной зависимости ВАХ полупроводниковых диодов.

Повышение температуры приводит к росту собственной концентрации носителей:

Eg

Т

,

(2.1)

ni

Nc Т Nv

Т exp

2kT

где Eg – ширина запрещенной зоны (Eg = Eс – Ev). Она зависит от температуры:

Eg = Eg0 – aT.

(2.2)

Для Si Eg0 = 1,21 эВ, a = 2,3∙10-4 эВ/К, для Ge Eg0 = 0,785 эВ, a = 3,7∙10-4 эВ/К.

Это приводит к росту тока насыщения (рисунок 2.1),

q Dn T np T q Dp T pn T

2

D T

Dp

T

(2.3)

n

js

jsn

jsp

q ni

T

.

Ln T

Lp T

Ln T pp

Lp T nn

Рис. 2.1. Изменение ВАХ при повышении температуры

Таким образом, для расчета ВАХ при температуре Т необходимо рассчитать значение тока насыщения и сопротивления базы диода. Для этого необходимо рассчитать значения концентраций неосновных носителей заряда и подвижности носителей при заданной температуре.

Температурная зависимость концентрации свободных носителей заряда n в полупроводнике легированном донорной примесью с концентрацией Nd показана на рисунке 2.2.

При низкой температуре (область 1) концентрация носителей повышается с ростом температуры за счет ионизации атомов примеси.

Концентрацию свободных носителей заряда в области 1, называемой областью слабой ионизации примеси, можно оценить по формуле (2.4), если полупроводник легирован донорной примесью (n-тип проводимости), или по формуле (2.5), если полупроводник легирован акцепторной примесью (p-тип проводимости).

n0 = (Nc∙Nd)1/2 exp[–|Ec–Ed|/(kT)],

(2.4)

p0 = (Na∙Nv)1/2 exp[–|Ea–Ev|/(kT)],

(2.5)

где Nd, Na – концентрация легирующей примеси; Nc, Nv – эффективная плотность квантовых состояний (количество разрешенных уровней в единице объема материала) в зоне проводимости и в валентной зоне, соответственно.

Для Si

Nc = 2,7∙1019 (T/300) 3/2, Nv = 1,05∙1019 (T/300) 3/2,

для Ge

Nc = 1,04∙1019 (T/300) 3/2, Nv = 6,1∙1019 (T/300) 3/2.


n

(логарифмический масштаб)

3 2

1

Nd

1/Ti

1/Ts

1/T

Рис. 2. Температурная зависимость концентрации свободных носителей заряда

Значение подвижности рассчитывается по формуле (1.2), а затем по формулам (1.8) и (1.9) рассчитать необходимые величины.

При домашней подготовке необходимо ознакомиться с температурными зависимостями в диодах ([1] – с. 33-53, 117-128? [2]).

Предварительное расчетное задание

1.Провести расчет υk, Is и rб диодов на основе германия и кремния при 250,

300 и 350 К.

2.Рассчитать и построить ВАХ диодов при 250, 300 и 350 К с учетом сопротивления базы.

Данные к расчету

Взять из задания к типовому расчету согласно номера в журнале

Рабочее задание

1.Занести в протокол тип, маркировку и приводимые в справочнике основные электрические параметры исследуемых диодов.

2.Измерить прямую и обратную ветви ВАХ диодов, результаты занести в

таблицы.

3.Построить графики ВАХ диодов в линейных масштабах по осям.

Анализ результатов измерений

1.Графически оценить значение υk.

2.Сравнить экспериментально полученные ВАХ диодов с рассчитанными, объяснить различия.

Контрольные вопросы

1.Объясните зависимость от температуры концентрации носителей и положения уровня Ферми.

2.Объясните зависимость подвижности от температуры и концентрации ионов

примеси.

3.Объясните электропроводность полупроводников и ее зависимость от температуры. Определение Eg по температурным зависимостям электропроводности.

4.Какие параметры диода изменяются при повышении температуры?


Лабораторная работа № 3

Изучение статических характеристик биполярного транзистора, включенного по схеме с общей базой

Цель работы: изучение принципа работы биполярного транзистора.

Биполярный транзистор – это полупроводниковый прибор с двумя p-n- переходами и тремя или более выводами, усилительные свойства которого обусловлены явлениями инжекции и экстракции неосновных носителей заряда. Биполярный транзистор – активный прибор, так как он позволяет осуществлять усиление мощности.

p-область

n-область

p-область

+

ОПЗ

ОПЗ

эмиттер

база

коллектор

Ec

EF

Ec

EV

Uкб

EF

Uэб

экстракция

Ev

инжекция

дырок

дырок

Рис. 3.1. Биполярный p-n-p-транзистор

в активном режиме

коллектор

коллектор

база

база

I

I

эмиттер

эмиттер

n-p-n-транзистор

p-n-p-транзистор

Рис. 3.2. Условное обозначение биполярного транзистора

Биполярный транзистор состоит из трех областей чередующегося типа электропроводности (рисунок 3.1), которые образуют два p-n-перехода, расположенных в непосредственной близости один от другого. В зависимости от порядка расположения областей различают p-n-p и n-p-n-транзисторы. Условное обозначение транзистора показано на рисунке 3.2. В активном режиме работы транзистора (режиме усиления мощности) на эмиттерный переход подается прямое смещение, а на коллекторный переход – обратное.

В p-n-p-транзисторе эмиттерный p-n-переход при прямом смещении инжектирует дырки из эмиттера в базовую область транзистора. Как правило, концентрация


легирующей примеси в эмиттере значительно больше, чем в базе, в этом случае ток дырок Iэp, инжектируемых в базу, практически равен полному току эмиттера Iэ. Эффективность

эмиттера характеризуется коэффициентом инжекции γ = Iэp /Iэ, который должен быть близок к единице.

Часть дырок, инжектированных эмиттером, будет рекомбинировать в базе с

электронами. Если толщина базы w много меньше диффузионной длины дырок в базе Lp, то большинство дырок дойдет до коллектора. Коллекторный переход смещен в обратном направлении, поэтому все дырки, дошедшие до ОПЗ коллектора, будут захвачены электрическим полем перехода и переброшены в квазинейтральную область коллектора – произойдет экстракция дырок коллектором. Эффективность перемещения неосновных

носителей через базу характеризуется коэффициентом переноса ж = Iкp /Iэp, где Iкp – ток дырок, достигающих границы ОПЗ коллекторного перехода. Значение κ в транзисторе

с малым отношением w/Lp близко к единице.

При токе эмиттера Iэ = 0 через коллекторный переход протекает обратный ток, обусловленный приложенным к нему обратным напряжением, как в изолированном p-n-

переходе, Iк = Iк0∙

U

кб

T

1 , где Iк0 –

обратный ток насыщения коллекторного

e

перехода, Uкб – напряжение, приложенное к коллектору. Учитывая, что управляемая

эмиттером составляющая тока коллектора равна γ ж Iэ, полный ток коллектора:

Uкб

T

= αN ∙Iэ – Iк0∙ e

1 ,

(3.1)

где αN = γ ж – коэффициент передачи тока эмиттера при нормальном включении, т.е.,

когда эмиттер инжектирует электроны, а коллектор – собирает. (Возможен и инверсный режим, когда коллектор инжектирует электроны, а эмиттер – собирает.)

Транзистор может быть включен по схеме с общей базой ОБ (базовый вывод на земле, он является общим для входной и выходной цепей), с общим эмиттером и общим коллектором. Схемы включения транзистора показаны на рисунке 3.3.

+Епит

+Епит

пит

+

Uвх

Uвых

Uвх

Uвых

+

Uвых

Uвх

+

ОБ

ОЭ

ОК

Рис. 3.3. Схемы включения транзистора

Зависимостью Iк (Uкб) при постоянном Iэ определяется семейство выходных ВАХ (рисунок 3.4,а) транзистора с общей базой. Семейство входных ВАХ (рисунок 3.4,б)