ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 17.04.2025
Просмотров: 260
Скачиваний: 0
Лабораторная работа № 2
Исследование температурной зависимости статических вольтамперных характеристик полупроводниковых диодов
Цель работы: приобретение навыков экспериментального исследования температурной зависимости ВАХ полупроводниковых диодов.
Повышение температуры приводит к росту собственной концентрации носителей:
Eg |
Т |
, |
(2.1) |
|||||
ni |
Nc Т Nv |
Т exp |
||||||
2kT |
||||||||
где Eg – ширина запрещенной зоны (Eg = Eс – Ev). Она зависит от температуры:
Eg = Eg0 – aT. |
(2.2) |
|||||||||||||
Для Si Eg0 = 1,21 эВ, a = 2,3∙10-4 эВ/К, для Ge Eg0 = 0,785 эВ, a = 3,7∙10-4 эВ/К. |
||||||||||||||
Это приводит к росту тока насыщения (рисунок 2.1), |
||||||||||||||
q Dn T np T q Dp T pn T |
2 |
D T |
Dp |
T |
(2.3) |
|||||||||
n |
||||||||||||||
js |
jsn |
jsp |
q ni |
T |
. |
|||||||||
Ln T |
Lp T |
Ln T pp |
Lp T nn |
|||||||||||
Рис. 2.1. Изменение ВАХ при повышении температуры
Таким образом, для расчета ВАХ при температуре Т необходимо рассчитать значение тока насыщения и сопротивления базы диода. Для этого необходимо рассчитать значения концентраций неосновных носителей заряда и подвижности носителей при заданной температуре.
Температурная зависимость концентрации свободных носителей заряда n в полупроводнике легированном донорной примесью с концентрацией Nd показана на рисунке 2.2.
При низкой температуре (область 1) концентрация носителей повышается с ростом температуры за счет ионизации атомов примеси.
Концентрацию свободных носителей заряда в области 1, называемой областью слабой ионизации примеси, можно оценить по формуле (2.4), если полупроводник легирован донорной примесью (n-тип проводимости), или по формуле (2.5), если полупроводник легирован акцепторной примесью (p-тип проводимости).
n0 = (Nc∙Nd)1/2 exp[–|Ec–Ed|/(kT)], |
(2.4) |
p0 = (Na∙Nv)1/2 exp[–|Ea–Ev|/(kT)], |
(2.5) |
где Nd, Na – концентрация легирующей примеси; Nc, Nv – эффективная плотность квантовых состояний (количество разрешенных уровней в единице объема материала) в зоне проводимости и в валентной зоне, соответственно.
Для Si |
Nc = 2,7∙1019 (T/300) 3/2, Nv = 1,05∙1019 (T/300) 3/2, |
для Ge |
Nc = 1,04∙1019 (T/300) 3/2, Nv = 6,1∙1019 (T/300) 3/2. |
n
(логарифмический масштаб)
3 2
1
Nd
1/Ti |
1/Ts |
1/T |
||
Рис. 2. Температурная зависимость концентрации свободных носителей заряда
Значение подвижности рассчитывается по формуле (1.2), а затем по формулам (1.8) и (1.9) рассчитать необходимые величины.
При домашней подготовке необходимо ознакомиться с температурными зависимостями в диодах ([1] – с. 33-53, 117-128? [2]).
Предварительное расчетное задание
1.Провести расчет υk, Is и rб диодов на основе германия и кремния при 250,
300 и 350 К.
2.Рассчитать и построить ВАХ диодов при 250, 300 и 350 К с учетом сопротивления базы.
Данные к расчету
Взять из задания к типовому расчету согласно номера в журнале
Рабочее задание
1.Занести в протокол тип, маркировку и приводимые в справочнике основные электрические параметры исследуемых диодов.
2.Измерить прямую и обратную ветви ВАХ диодов, результаты занести в
таблицы.
3.Построить графики ВАХ диодов в линейных масштабах по осям.
Анализ результатов измерений
1.Графически оценить значение υk.
2.Сравнить экспериментально полученные ВАХ диодов с рассчитанными, объяснить различия.
Контрольные вопросы
1.Объясните зависимость от температуры концентрации носителей и положения уровня Ферми.
2.Объясните зависимость подвижности от температуры и концентрации ионов
примеси.
3.Объясните электропроводность полупроводников и ее зависимость от температуры. Определение Eg по температурным зависимостям электропроводности.
4.Какие параметры диода изменяются при повышении температуры?
Лабораторная работа № 3
Изучение статических характеристик биполярного транзистора, включенного по схеме с общей базой
Цель работы: изучение принципа работы биполярного транзистора.
Биполярный транзистор – это полупроводниковый прибор с двумя p-n- переходами и тремя или более выводами, усилительные свойства которого обусловлены явлениями инжекции и экстракции неосновных носителей заряда. Биполярный транзистор – активный прибор, так как он позволяет осуществлять усиление мощности.
p-область |
n-область |
p-область |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||
+ |
– |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
ОПЗ |
ОПЗ |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
эмиттер |
база |
коллектор |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||
Ec |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
EF |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Ec |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
EV |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Uкб |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
EF |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Uэб |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
экстракция |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Ev |
инжекция |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
дырок |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
дырок |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Рис. 3.1. Биполярный p-n-p-транзистор |
в активном режиме |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
коллектор |
коллектор |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
база |
база |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
I |
I |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
эмиттер |
эмиттер |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
n-p-n-транзистор |
p-n-p-транзистор |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Рис. 3.2. Условное обозначение биполярного транзистора |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Биполярный транзистор состоит из трех областей чередующегося типа электропроводности (рисунок 3.1), которые образуют два p-n-перехода, расположенных в непосредственной близости один от другого. В зависимости от порядка расположения областей различают p-n-p и n-p-n-транзисторы. Условное обозначение транзистора показано на рисунке 3.2. В активном режиме работы транзистора (режиме усиления мощности) на эмиттерный переход подается прямое смещение, а на коллекторный переход – обратное.
В p-n-p-транзисторе эмиттерный p-n-переход при прямом смещении инжектирует дырки из эмиттера в базовую область транзистора. Как правило, концентрация
легирующей примеси в эмиттере значительно больше, чем в базе, в этом случае ток дырок Iэp, инжектируемых в базу, практически равен полному току эмиттера Iэ. Эффективность
эмиттера характеризуется коэффициентом инжекции γ = Iэp /Iэ, который должен быть близок к единице.
Часть дырок, инжектированных эмиттером, будет рекомбинировать в базе с
электронами. Если толщина базы w много меньше диффузионной длины дырок в базе Lp, то большинство дырок дойдет до коллектора. Коллекторный переход смещен в обратном направлении, поэтому все дырки, дошедшие до ОПЗ коллектора, будут захвачены электрическим полем перехода и переброшены в квазинейтральную область коллектора – произойдет экстракция дырок коллектором. Эффективность перемещения неосновных
носителей через базу характеризуется коэффициентом переноса ж = Iкp /Iэp, где Iкp – ток дырок, достигающих границы ОПЗ коллекторного перехода. Значение κ в транзисторе
с малым отношением w/Lp близко к единице.
При токе эмиттера Iэ = 0 через коллекторный переход протекает обратный ток, обусловленный приложенным к нему обратным напряжением, как в изолированном p-n-
переходе, Iк = Iк0∙ |
U |
кб |
T |
1 , где Iк0 – |
обратный ток насыщения коллекторного |
||
e |
|||||||
перехода, Uкб – напряжение, приложенное к коллектору. Учитывая, что управляемая |
|||||||
эмиттером составляющая тока коллектора равна γ ж Iэ, полный ток коллектора: |
|||||||
Uкб |
T |
||||||
Iк = αN ∙Iэ – Iк0∙ e |
1 , |
(3.1) |
|||||
где αN = γ ж – коэффициент передачи тока эмиттера при нормальном включении, т.е.,
когда эмиттер инжектирует электроны, а коллектор – собирает. (Возможен и инверсный режим, когда коллектор инжектирует электроны, а эмиттер – собирает.)
Транзистор может быть включен по схеме с общей базой ОБ (базовый вывод на земле, он является общим для входной и выходной цепей), с общим эмиттером и общим коллектором. Схемы включения транзистора показаны на рисунке 3.3.
+Е |
+Епит |
+Епит |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
пит |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
+ |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Iк |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Uвх |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Iк |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Iк |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
– |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Iэ |
Uвых |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
IБ |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
– |
IБ |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Uвх |
Uвых |
+ |
Uвых |
Iэ |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Iб |
Uвх |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
– |
Iэ |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
+ |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
ОБ |
ОЭ |
ОК |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Рис. 3.3. Схемы включения транзистора
Зависимостью Iк (Uкб) при постоянном Iэ определяется семейство выходных ВАХ (рисунок 3.4,а) транзистора с общей базой. Семейство входных ВАХ (рисунок 3.4,б)