ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 30.04.2025

Просмотров: 1137

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

СОДЕРЖАНИЕ

_____________

© Национальный исследовательский университет мэи, 2013

Лабораторная работа № 1. Исследование статических вольт-амперных характеристик полупроводниковых диодов

Германий (Ge)

Предварительное расчетное задание

Данные к расчету

Рабочее задание

Анализ результатов измерений

Контрольные вопросы

Лабораторная работа № 2. Исследование температурной зависимости статических вольт-амперных характеристик полупроводниковых диодов

Предварительное расчетное задание

Предварительное расчетное задание

Данные к расчету

Рабочее задание

Анализ результатов измерений

Контрольные вопросы

Лабораторная работа № 4. Исследование статических характеристик биполярного транзистора, включенного по схеме с общим эмиттером

Предварительное расчетное задание

Рабочее задание

Анализ результатов измерений

Контрольные вопросы

Лабораторная работа № 5. Исследование статических характеристик полевого транзистора с управляющим pn-переходом

Предварительное расчетное задание

Данные к расчету

Рабочее задание

Анализ результатов измерений

Контрольные вопросы

Лабораторная работа № 6. Исследование статических характеристик полевого транзистора с мдп - структурой

Предварительное расчетное задание

Данные к расчету

Рабочее задание

Анализ результатов измерений

Контрольные вопросы

Основные принципы работы и техническая эксплуатация лабораторного комплекса

Литература

Содержание

МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ

РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ

_____________

НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ МЭИ

____________________________________________________

И.Н. МИРОШНИКОВА, О.Б. САРАЧ, Б.Н. МИРОШНИКОВ

ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОНИКИ

ТВЕРДОТЕЛЬНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА

Лабораторные работы

Биполярные диоды и транзисторы

Полевые транзисторы

Методическое пособие по курсу

Физические основы электроники

Часть I

Твердотельная электроника

для студентов, обучающихся по направлению

«Электроника и наноэлектроника»

Москва Издательский дом МЭИ 2013

УДК 621.383

М

Утверждено учебным управлением МЭИ

Подготовлено на кафедре полупроводниковой электроники

Рецензенты: доктор технических наук, профессор А.М. Гуляев.

М Физические основы электроники (твердотельная электроника). Лабораторные работы: методическое пособие И.Н. Мирошникова, О.Б. Сарач, Б.Н. Мирошников.  М.: Издательство МЭИ, 2013.  96 с.

Представлены теоретические сведения и методика выполнения цикла лабораторных работ по исследованию электрических явлений в полупроводниковых приборах, методах исследования их характеристик, так и свойств оптоэлектронных приборов (фоторезисторов, фототранзисторов, светодиодов).

Методические указания предназначены для обеспечения учебного процесса при многоуровневой подготовке специалистов по укрупненной группы специальностей и направлений подготовки 210100 «Электроника и наноэлектроника», а также для образовательных программам технической и педагогической направленности.

© Национальный исследовательский университет мэи, 2013

Мирошникова Ирина Николаевна

Сарач Ольга Борисовна

Мирошников Борис Николаевич

Методическое пособие по курсу

«Физические основы электроники», часть I

«Твердотельная электроника»


для студентов, обучающихся по направлению

«Электроника и наноэлектроника»

Редактор издательства

____________________________________________________________

Темплан издания МЭИ 2012, метод. Подписано в печать

Печать офсетная

Формат 60×84/16 Физ. печ. л. 3 Тираж 200 экз. Изд. № Заказ ____________________________________________________________

Лабораторная работа № 1. Исследование статических вольт-амперных характеристик полупроводниковых диодов

Цель работы: изучение принципа работы полупроводниковых диодов и светодиодов.

Контролируемое введение примеси – легирование позволяет управлять концентрацией свободных носителей заряда в полупроводнике. Если атомы примеси отдают электроны, примесь называется донорной. Уровень донорной примеси Ed находится в запрещенной зоне вблизи дна зоны проводимости Ec (рисунок 1.1). Для ионизации атомов примеси требуется энергия Ec–Ed. Для Si и Ge донорной примесью могут быть элементы пятой группы. Если атомы примеси принимают электроны, примесь называется акцепторной. Уровень акцепторной примеси Ea находится в запрещенной зоне вблизи потолка валентной зоны Ev. Для ионизации атомов примеси требуется энергия EaEv. Для Si и Ge акцепторной примесью могут быть элементы третьей группы.

а) б)

Рис. 1.1. Зонная структура полупроводника:

а) полупроводник n-типа (электронный);

б) полупроводник p-типа (дырочный)

При температурах, близких к комнатной концентрации основных носителей заряда совпадает с концентрацией легирующей примеси: ,.

Произведение концентраций свободных электронов и дырок в полупроводнике равно квадрату собственной концентрации носителей заряда . Из этого соотношения находят концентрациюнеосновных носителей заряда, т.е. дырок в полупроводнике n-типа () и электронов в полупроводникеp-типа ().


Удельная электропроводность полупроводника σ (, где– удельное сопротивление) прямо пропорциональна концентрации свободных носителей заряда и ихподвижности μ:

, (1.1)

где q – элементарный заряд (q = 1,610–19 Кл).

Для расчета подвижности в германии может быть использована эмпирическая формула:

, (1.2)

где ‒ суммарная концентрация ионов доноров и акцепторов, остальные величины являются эмпирическими постоянными.


Германий (Ge)

Носители заряда

μ1

μ2

N0,

см –3

a

b

см2/(В∙с)

электроны

50

3850

8,11016

0, 48

0,269ln(N)  10,9

дырки

42

1860

1,41017 

0,42

0,33ln(N)  14,5

Для расчета подвижности в кремнии (Si) и арсениде галлия (GaAs) следует использовать следующую также эмпирическую формулу:

, (1.3)

где

(1.4)

Тип п/п материала

Тип носителей заряда

, см2/(В·с)

, см2/(В·с)

,

см-3

Si

Электроны

Дырки

1414,0

470,5

68,5

44,9

9,2∙1016

2,2∙1017

2,42

2,20

0,26

0,36

0,71

0,72

GaAs

Электроны

Дырки

9400,0

450,0

750,0

30,0

7∙1016

5∙1017

2,3

2,3

0,50

0,45

0,5

0,5


Полупроводниковым диодом называют прибор с одним p-n-переходом и двумя выводами. Структура диода на основе p-n-перехода и его потенциальная диаграмма показаны на рисунке 1.2, а, условное обозначение – на рисунке 1.2, б.

Рис. 1.2. Диод на основе p-n перехода (здесь Na > Nd)

На границе областей n- и p-типа проводимости существует область, обедненная подвижными носителями заряда, – область пространственного заряда (ОПЗ). Нескомпенсированные ионы акцепторов у границы раздела создают отрицательный объемный заряд  = qNa, нескомпенсированные ионы донорной примеси создают положительный объемный заряд Q+= qNd+. В результате в ОПЗ образуется внутреннее электрическое поле Eопз, препятствующее перемещению электронов из n-области в p-область и дырок из p‑области в n-область.

Разность потенциалов между границами ОПЗ φk называется контактной разностью потенциалов. Для резкого (ступенчатого) p-n-перехода

, (1.5)

Здесь φT  = kT/q – тепловой потенциал равный 0,026 В при комнатной температуре, T – абсолютная температура (в Кельвинах), k – постоянная Больцмана (k=8,61710–5 эВ/К); и – концентрации неосновных носителей заряда в соответствующих областях в состоянии термодинамического равновесия.

При приложении к p-n-переходу внешнего напряжения практически все оно падает на ОПЗ, так как ОПЗ имеет наиболее высокое сопротивление. Если «+» источника напряжения соединяется с n-областью, а «» – с p‑областью, внешнее электрическое поле совпадает по направлению с внутренним, высота потенциального барьера увеличивается и становится равной φk+U. Это обратное включение.

Если «+» источника напряжения соединяется с p-областью, а «» – с n‑областью, внешнее электрическое поле направлено против внутреннего, высота потенциального барьера уменьшается и становится равной φU. Это прямое включение. Если внешнее напряжение будет близко к φk, носители смогут переходить через барьер, и через диод будет течь значительный ток.