Добавлен: 23.10.2018

Просмотров: 15691

Скачиваний: 29

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.
background image

131

из

базы

в

эмиттер

который

был

в

равновесном

состоянии

                

(

рис

. 4.5, 

а

), 

уменьшается

и

остается

неуравновешенный

поток

достаточно

  «

энергичных

» 

дырок

из

эмиттера

в

базу

Соответст

-

венно

в

эмиттерном

слое

образуется

отрицательный

заряд

а

в

ба

-

зовом

слое

такой

же

положительный

заряд

энергетические

уров

-

ни

электронов

в

эмиттере

повышаются

затрудняя

переход

дырок

слева

направо

Этот

процесс

продолжается

до

тех

пор

пока

пото

-

ки

дырок

из

эмиттера

и

в

эмиттер

снова

не

уравновесятся

Е

ЭБ 

I

Э 

Е

Э 

I

Э 

ϕ

F

I

Э 

I

К 

U

Rk 

Е

ЭБ 

I

б 

Е

ЭБ 

ϕ

FЭ 

Б

Э

ϕ

F

p  

К 

Э

К

ϕ

Б

К

ϕ

p  

Э

Е

ЭБ 

I

б 

I

К 

Е

ЭБ 

ϕ

FЭ 

ϕ

F

Б

ϕ

F

p  

p  

I

К 

а) 

в) 

б 

г 

Е

К 

I

б 

ϕ

FЭ 

ϕ

F

Б

ϕ

F

Э 

К 

Е

К 

I

Э 

Е

ЭБ 

Рис. 4.5 — Зонные диаграммы для плоскостного транзистора 

при различных режимах его работы 


background image

132

Во

всех

случаях

у

транзистора

р

-n-

р

главными

рабочими

но

-

сителями

образующими

токи

через

переходы

являются

дырки

тогда

как

ток

базы

всегда

обусловлен

электронами

последние

компенсируют

избыточный

заряд

дырок

в

базе

и

обеспечивают

ее

нейтральность

как

во

время

переходных

процессов

так

и

в

ста

-

ционарном

режиме

когда

убыль

дырок

обусловлена

только

ре

-

комбинацией

Распределение носителей в базе.

Дырки

инжектированные

эмиттером

достигают

коллектора

не

сразу

а

с

некоторой

за

-

держкой

обусловленной

их

перемещением

вдоль

базы

Кроме

то

-

го

в

связи

с

хаотичностью

движения

дырок

коллекторный

ток

нарастает

не

скачком

а

плавно

Соответственно

ток

базы

в

первый

момент

равен

току

эмит

-

тера

а

затем

постепенно

уменьшается

до

стационарной

величи

-

ны

Примерная

картина

переходного

процесса

показана

на

рис

4.6, 

где

з

 — 

время

задержки

а

ф

 — 

длительность

фронта

I

Э 

I

Б 

I

К 

t

t

t

t

t

ф 

t

З 

Рис. 4.6 — Переходные процессы при подаче  

ступеньки эмиттерного тока 

Распределение

дырок

в

базе

почти

линейно

как

показано

на

рис

. 4.7. 

На

самом

деле

градиент

концентрации

около

коллектор

-

ного

перехода

несколько

меньше

чем

около

эмиттерного

по

-

скольку

ток

коллектора

  (

из

-

за

рекомбинации

немного

меньше

эмиттерного

тока

Эту

разницу

в

градиентах

следует

иметь

в

виду


background image

133

но

ее

трудно

отразить

на

графике

Линейному

распределению

ды

-

рок

должно

соответствовать

почти

линейное

распределение

ком

-

пенсирующих

  (

избыточных

электронов

в

базе

  (

рис

. 4.7). 

Заряды

избыточных

носителей

пропорциональны

площадям

под

кривыми

их

распределения

Поскольку

база

в

целом

нейтральна

можно

счи

-

тать

эти

площади

одинаковыми

Для

оценки

заряда

воспользуемся

распределением

дырок

Очевидно

что

заряд

дырок

пропорциона

-

лен

толщине

базы

и

току

транзистора

определяющему

наклон

ли

-

нии

р

 (

х

)

. 

Вопрос

о

том

какому

из

двух

токов

 (

Э

 

или

K

пропор

-

ционален

заряд

не

очень

существен

так

как

эти

токи

в

стационар

-

ном

режиме

почти

одинаковы

В

большинстве

случаев

удобнее

считать

заряд

пропорциональным

току

коллектора

так

как

в

схе

-

мах

этот

ток

обычно

не

претерпевает

скачкообразных

изменений

Эквивалентную

емкость

обусловленную

изменениями

заряда

в

ба

-

зе

называют

как

и

в

диоде

диффузионной

емкостью

Б 

 P

 

Δ

 

Δ

Э 

К 

 х 

Рис. 4.7 — Распределение дырок  

и избыточных электронов в базе 

Модуляция  толщины базы

Как

известно

ширина

р

-n 

пере

-

хода

зависит

от

напряжения

на

нем

Поскольку

эмиттерный

переход

смещен

в

прямом

направлении

его

ширина

мала

и

изменения

этой

ширины

при

изменениях

Э

 

не

имеют

существенного

значения

Коллекторный

же

переход

смещенный

в

обратном

направ

-

лении

имеет

сравнительно

большую

ширину

и

изменения

ее

при

изменениях

напряжения

K

 

важны

для

работы

транзистора

А

именно

поскольку

коллекторный

переход

сосредоточен

в

базе

(

как

более

высокоомном

слое

), 

приращения

его

ширины

оказы

-

ваются

практически

равными

приращениям

толщины

базы

В

ре

-

зультате

получается

зависимость

( )

K

w U

которую

называют

мо

-


background image

134

дуляцией

толщины

базы

или

эффектом

Эрли

Проанализируем

эффект

модуляции

базы

Во-первых

изменение

толщины

базы

влияет

на

ту

долю

инжектированных

дырок

которая

доходит

до

коллектора

избе

-

жав

рекомбинации

Чем

меньше

толщина

базы

тем

эта

доля

больше

Значит

при

неизменном

токе

эмиттера

модуляция

тол

-

щины

базы

приводит

к

изменениям

тока

коллектора

Соответст

-

венно

коэффициент

передачи

эмиттерного

тока

оказывается

функцией

коллекторного

напряжения

а

коллекторный

переход

имеет

конечное

дифференциальное

сопротивление

.  

Во-вторых

модуляция

толщины

базы

сопровождается

из

-

менением

заряда

дырок

в

базе

иначе

говоря

имеет

место

зави

-

симость

заряда

от

коллекторного

напряжения

т

.

е

коллекторный

переход

обладает

некоторой

диффузионной

емкостью

дополни

-

тельно

к

обычной

барьерной

В-третьих

модуляция

толщины

базы

меняет

время

диффу

-

зии

дырок

через

базу

тем

самым

коллекторное

напряжение

влия

-

ет

на

частотные

свойства

транзистора

В-четвертых

поскольку

тепловой

ток

эмиттерного

перехо

-

да

0

Э

I

при

тонкой

базе

обратно

пропорционален

ее

толщине

на

-

пряжение

K

модулируя

толщину

базы

модулирует

также

ток

0

Э

I

а

вместе

с

ним

согласно

 (2.33), 

всю

вольт

-

амперную

харак

-

теристику

эмиттерного

перехода

Следовательно

если

одна

из

входных

величин

  (

Э

 

или

Э

задана

то

вторая

оказывается

функцией

коллекторного

напряжения

  (

рис

. 4.8). 

Такое

влияние

разумно

назвать

внутренней

обратной

связью

по

напряжению

 

 p 

  х 

 dw 

dp(o

dI

Э

=f

2

[d(grad(p))] 

dU

Э

=f

1

[dp(0)] 

  dw 

  х 

Рис. 4.8 — Влияние модуляции толщины базы на входные  

величины: а — 

Э

I

const

=

б — 

Э

U

const

=


background image

135

4.3 

Статические

характеристики

транзистора

Выше

была

рассмотрена

идеализированная

модель

транзи

-

стора

Идеализация

заключалась

не

только

в

том

что

модель

счи

-

талась

одномерной

но

и

в

том

что

не

учитывались

объемные

со

-

противления

слоев

Сопротивления

слоев

эмиттера

и

коллектора

существенны

только

в

некоторых

ключевых

режимах

Сопротив

-

ление

же

базы

существенно

почти

во

всех

случаях

но

чтобы

не

усложнять

предварительный

анализ

мы

учтем

его

позднее

Формулы  Мола-Эберса.

Для

транзистора

можно

принять

  

эквивалентную

схему

которая

показана

на

рис

. 4.9. 

Здесь

каждый

из

переходов

изображен

в

виде

диода

а

взаимодействие

их

отра

-

жено

генераторами

токов

Если

эмиттерный

переход

открыт

и

че

-

рез

него

протекает

ток

1

то

в

цепи

коллектора

как

известно

бу

-

дет

протекать

несколько

меньший

ток

поскольку

часть

инжекти

-

рованных

носителей

рекомбинирует

α

N

I

α

i

I

К 

Б 

I

Б 

I

К 

I

Э 

I

2

=f

2

(U

К

I

1

=f

1

(U

Э

U

Э 

U

К 

Э 

Рис. 4.9 — Эквивалентная схема идеализированного  

транзистора 

Этот

меньший

ток

обеспечивается

на

схеме

генератором

1

N

I

α

где

N

α  < 1 — 

коэффициент

передачи

эмиттерного

тока

Индекс

 N 

означает

нормальное

включение

транзистора

Если

триод

работает

в

инверсном

включении

  (

положительное

смеще

-

ние

на

коллекторе

и

отрицательное

на

эмиттере

), 

то

прямому

коллекторному

току

2

 

соответствует

эмиттерный

ток

2

i

I

α , 

вы

-

текающий

из

эмиттера

Коэффициент

i

α  

есть

коэффициент

пере

-

дачи

коллекторного

тока