Файл: Электроника Ицкович Часть 1.pdf

Добавлен: 23.10.2018

Просмотров: 11034

Скачиваний: 27

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.
background image

 

131

 

из

 

базы

 

в

 

эмиттер

который

 

был

 

в

 

равновесном

 

состоянии

                

(

рис

. 4.5, 

а

), 

уменьшается

 

и

 

остается

 

неуравновешенный

 

поток

 

достаточно

  «

энергичных

» 

дырок

 

из

 

эмиттера

 

в

 

базу

Соответст

-

венно

 

в

 

эмиттерном

 

слое

 

образуется

 

отрицательный

 

заряд

а

 

в

 

ба

-

зовом

 

слое

 

такой

 

же

 

положительный

 

заряд

энергетические

 

уров

-

ни

 

электронов

 

в

 

эмиттере

 

повышаются

затрудняя

 

переход

 

дырок

 

слева

 

направо

Этот

 

процесс

 

продолжается

 

до

 

тех

 

пор

пока

 

пото

-

ки

 

дырок

 

из

 

эмиттера

 

и

 

в

 

эмиттер

 

снова

 

не

 

уравновесятся

 

 

 

Е

ЭБ 

I

Э 

Е

Э 

I

Э 

ϕ

F

I

Э 

I

К 

U

Rk 

Е

ЭБ 

I

б 

Е

ЭБ 

ϕ

FЭ 

Б

 

Э

 

ϕ

F

 

p  

К 

Э

 

К

 

ϕ

Б

 

К

 

ϕ

 

p  

Э

 

Е

ЭБ 

I

б 

I

К 

Е

ЭБ 

ϕ

FЭ 

ϕ

F

Б

 

ϕ

F

 

p  

p  

I

К 

 

а) 

в) 

 

б 

г 

Е

К 

I

б 

ϕ

FЭ 

ϕ

F

Б

 

ϕ

F

 

Э 

К 

Е

К 

I

Э 

Е

ЭБ 

 

Рис. 4.5 — Зонные диаграммы для плоскостного транзистора 

при различных режимах его работы 


background image

 

132

 

Во

 

всех

 

случаях

 

у

 

транзистора

 

р

-n-

р

 

главными

 

рабочими

 

но

-

сителями

образующими

 

токи

 

через

 

переходы

являются

 

дырки

тогда

 

как

 

ток

 

базы

 

всегда

 

обусловлен

 

электронами

последние

 

компенсируют

 

избыточный

 

заряд

 

дырок

 

в

 

базе

 

и

 

обеспечивают

 

ее

 

нейтральность

 

как

 

во

 

время

 

переходных

 

процессов

так

 

и

 

в

 

ста

-

ционарном

 

режиме

когда

 

убыль

 

дырок

 

обусловлена

 

только

 

ре

-

комбинацией

Распределение носителей в базе.

 

Дырки

инжектированные

 

эмиттером

достигают

 

коллектора

 

не

 

сразу

а

 

с

 

некоторой

 

за

-

держкой

обусловленной

 

их

 

перемещением

 

вдоль

 

базы

Кроме

 

то

-

го

в

 

связи

 

с

 

хаотичностью

 

движения

 

дырок

 

коллекторный

 

ток

 

нарастает

 

не

 

скачком

а

 

плавно

Соответственно

 

ток

 

базы

 

в

 

первый

 

момент

 

равен

 

току

 

эмит

-

тера

а

 

затем

 

постепенно

 

уменьшается

 

до

 

стационарной

 

величи

-

ны

Примерная

 

картина

 

переходного

 

процесса

 

показана

 

на

 

рис

4.6, 

где

 

з

 — 

время

 

задержки

а

 

ф

 — 

длительность

 

фронта

 

I

Э 

I

Б 

I

К 

 

 

t

t

 

t

 

t

 

t

ф 

t

З 

 

Рис. 4.6 — Переходные процессы при подаче  

ступеньки эмиттерного тока 

 

Распределение

 

дырок

 

в

 

базе

 

почти

 

линейно

как

 

показано

 

на

 

рис

. 4.7. 

На

 

самом

 

деле

 

градиент

 

концентрации

 

около

 

коллектор

-

ного

 

перехода

 

несколько

 

меньше

чем

 

около

 

эмиттерного

по

-

скольку

 

ток

 

коллектора

  (

из

-

за

 

рекомбинации

немного

 

меньше

 

эмиттерного

 

тока

Эту

 

разницу

 

в

 

градиентах

 

следует

 

иметь

 

в

 

виду


background image

 

133

 

но

 

ее

 

трудно

 

отразить

 

на

 

графике

Линейному

 

распределению

 

ды

-

рок

 

должно

 

соответствовать

 

почти

 

линейное

 

распределение

 

ком

-

пенсирующих

  (

избыточных

электронов

 

в

 

базе

  (

рис

. 4.7). 

Заряды

 

избыточных

 

носителей

 

пропорциональны

 

площадям

 

под

 

кривыми

 

их

 

распределения

Поскольку

 

база

 

в

 

целом

 

нейтральна

можно

 

счи

-

тать

 

эти

 

площади

 

одинаковыми

Для

 

оценки

 

заряда

 

воспользуемся

 

распределением

 

дырок

Очевидно

что

 

заряд

 

дырок

 

пропорциона

-

лен

 

толщине

 

базы

 

и

 

току

 

транзистора

определяющему

 

наклон

 

ли

-

нии

 

р

 (

х

)

. 

Вопрос

 

о

 

том

какому

 

из

 

двух

 

токов

 (

Э

 

или

 

K

пропор

-

ционален

 

заряд

не

 

очень

 

существен

так

 

как

 

эти

 

токи

 

в

 

стационар

-

ном

 

режиме

 

почти

 

одинаковы

В

 

большинстве

 

случаев

 

удобнее

 

считать

 

заряд

 

пропорциональным

 

току

 

коллектора

так

 

как

 

в

 

схе

-

мах

 

этот

 

ток

 

обычно

 

не

 

претерпевает

 

скачкообразных

 

изменений

Эквивалентную

 

емкость

обусловленную

 

изменениями

 

заряда

 

в

 

ба

-

зе

называют

как

 

и

 

в

 

диоде

диффузионной

 

емкостью

 

 

Б 

 P

 

Δ

 

Δ

Э 

К 

 х 

 

Рис. 4.7 — Распределение дырок  

и избыточных электронов в базе 

 

Модуляция  толщины базы

Как

 

известно

ширина

 

р

-n 

пере

-

хода

 

зависит

 

от

 

напряжения

 

на

 

нем

Поскольку

 

эмиттерный

 

переход

 

смещен

 

в

 

прямом

 

направлении

его

 

ширина

 

мала

 

и

 

изменения

 

этой

 

ширины

 

при

 

изменениях

 

Э

 

не

 

имеют

 

существенного

 

значения

Коллекторный

 

же

 

переход

смещенный

 

в

 

обратном

 

направ

-

лении

имеет

 

сравнительно

 

большую

 

ширину

и

 

изменения

 

ее

 

при

 

изменениях

 

напряжения

 

K

 

важны

 

для

 

работы

 

транзистора

А

 

именно

поскольку

 

коллекторный

 

переход

 

сосредоточен

 

в

 

базе

 

(

как

 

более

 

высокоомном

 

слое

), 

приращения

 

его

 

ширины

 

оказы

-

ваются

 

практически

 

равными

 

приращениям

 

толщины

 

базы

В

 

ре

-

зультате

 

получается

 

зависимость

 

( )

K

w U

которую

 

называют

 

мо

-


background image

 

134

 

дуляцией

 

толщины

 

базы

 

или

 

эффектом

 

Эрли

Проанализируем

 

эффект

 

модуляции

 

базы

Во-первых

изменение

 

толщины

 

базы

 

влияет

 

на

 

ту

 

долю

 

инжектированных

 

дырок

которая

 

доходит

 

до

 

коллектора

избе

-

жав

 

рекомбинации

Чем

 

меньше

 

толщина

 

базы

тем

 

эта

 

доля

 

больше

Значит

при

 

неизменном

 

токе

 

эмиттера

 

модуляция

 

тол

-

щины

 

базы

 

приводит

 

к

 

изменениям

 

тока

 

коллектора

Соответст

-

венно

 

коэффициент

 

передачи

 

эмиттерного

 

тока

 

оказывается

 

функцией

 

коллекторного

 

напряжения

а

 

коллекторный

 

переход

 

имеет

 

конечное

 

дифференциальное

 

сопротивление

.  

Во-вторых

модуляция

 

толщины

 

базы

 

сопровождается

 

из

-

менением

 

заряда

 

дырок

 

в

 

базе

иначе

 

говоря

имеет

 

место

 

зави

-

симость

 

заряда

 

от

 

коллекторного

 

напряжения

т

.

е

коллекторный

 

переход

 

обладает

 

некоторой

 

диффузионной

 

емкостью

 

дополни

-

тельно

 

к

 

обычной

 

барьерной

В-третьих

модуляция

 

толщины

 

базы

 

меняет

 

время

 

диффу

-

зии

 

дырок

 

через

 

базу

тем

 

самым

 

коллекторное

 

напряжение

 

влия

-

ет

 

на

 

частотные

 

свойства

 

транзистора

В-четвертых

поскольку

 

тепловой

 

ток

 

эмиттерного

 

перехо

-

да

 

0

Э

I

 

при

 

тонкой

 

базе

 

обратно

 

пропорционален

 

ее

 

толщине

на

-

пряжение

 

K

модулируя

 

толщину

 

базы

модулирует

 

также

 

ток

 

0

Э

I

а

 

вместе

 

с

 

ним

согласно

 (2.33), 

всю

 

вольт

-

амперную

 

харак

-

теристику

 

эмиттерного

 

перехода

Следовательно

если

 

одна

 

из

 

входных

 

величин

  (

Э

 

или

 

Э

задана

то

 

вторая

 

оказывается

 

функцией

 

коллекторного

 

напряжения

  (

рис

. 4.8). 

Такое

 

влияние

 

разумно

 

назвать

 

внутренней

 

обратной

 

связью

 

по

 

напряжению

 

 

 p 

  х 

 

 dw 

dp(o

 

dI

Э

=f

2

[d(grad(p))] 

 

dU

Э

=f

1

[dp(0)] 

  dw 

  х 

 

Рис. 4.8 — Влияние модуляции толщины базы на входные  

величины: а — 

Э

I

const

=

б — 

Э

U

const

=

 

 


background image

 

135

 

4.3 

Статические

 

характеристики

 

транзистора

 

 

Выше

 

была

 

рассмотрена

 

идеализированная

 

модель

 

транзи

-

стора

Идеализация

 

заключалась

 

не

 

только

 

в

 

том

что

 

модель

 

счи

-

талась

 

одномерной

но

 

и

 

в

 

том

что

 

не

 

учитывались

 

объемные

 

со

-

противления

 

слоев

Сопротивления

 

слоев

 

эмиттера

 

и

 

коллектора

 

существенны

 

только

 

в

 

некоторых

 

ключевых

 

режимах

Сопротив

-

ление

 

же

 

базы

 

существенно

 

почти

 

во

 

всех

 

случаях

но

 

чтобы

 

не

 

усложнять

 

предварительный

 

анализ

мы

 

учтем

 

его

 

позднее

Формулы  Мола-Эберса.

 

Для

 

транзистора

 

можно

 

принять

  

эквивалентную

 

схему

которая

 

показана

 

на

 

рис

. 4.9. 

Здесь

 

каждый

 

из

 

переходов

 

изображен

 

в

 

виде

 

диода

а

 

взаимодействие

 

их

 

отра

-

жено

 

генераторами

 

токов

Если

 

эмиттерный

 

переход

 

открыт

 

и

 

че

-

рез

 

него

 

протекает

 

ток

 

1

то

 

в

 

цепи

 

коллектора

как

 

известно

бу

-

дет

 

протекать

 

несколько

 

меньший

 

ток

поскольку

 

часть

 

инжекти

-

рованных

 

носителей

 

рекомбинирует

 

 

 

α

N

I

 

α

i

I

К 

Б 

I

Б 

I

К 

I

Э 

I

2

=f

2

(U

К

I

1

=f

1

(U

Э

U

Э 

U

К 

Э 

 

Рис. 4.9 — Эквивалентная схема идеализированного  

транзистора 

 

Этот

 

меньший

 

ток

 

обеспечивается

 

на

 

схеме

 

генератором

 

1

N

I

α

где

 

N

α  < 1 — 

коэффициент

 

передачи

 

эмиттерного

 

тока

Индекс

 N 

означает

 

нормальное

 

включение

 

транзистора

Если

 

триод

 

работает

 

в

 

инверсном

 

включении

  (

положительное

 

смеще

-

ние

 

на

 

коллекторе

 

и

 

отрицательное

 

на

 

эмиттере

), 

то

 

прямому

 

коллекторному

 

току

 

2

 

соответствует

 

эмиттерный

 

ток

 

2

i

I

α , 

вы

-

текающий

 

из

 

эмиттера

Коэффициент

 

i

α  

есть

 

коэффициент

 

пере

-

дачи

 

коллекторного

 

тока