4. Как выглядит графически, распределение потенциала на границе металл-вакуум? (Дать пояснения).

5. Что представляет собой оксидный катод, и в чем заключается его основное преимущество по сравнению с металлическим катодом?

6. Какие факторы определяют величину тока эмиссии металлического и оксидного катодов?

7. Почему работа выхода у полупроводников p-типа больше чем у полупроводников n-типа?

8. Как измерить температуру катода и каковы возможные причины погрешностей измерения?

9. Как определить ток эмиссии катода?

10. Какие участки содержит полная ВАХ диода? (Дать пояснения).

11. Что такое эффект Шоттки?

12. В чем заключаются основные особенности экспериментального изучения оксидного катода?
Отчет должен содержать:

1. 
   Экспериментальные данные.
   
2. 
   Графики.
   
3. 
   Расчеты.
   
4. 
   Выводы.
   

Литература:

[7]-C.92-112.

Методическая литература:

[14]-C.8-16.

Лабораторная работа №12

ИССЛЕДОВАНИЕ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ МЕТОДОМ ЗОНДОВ

Цель работы: ознакомление с зондовой методикой диагностики газоразрядной плазмы и экспериментальное определение параметров положительного столба разряда низкого давления.

Методические указания к выполнению работы:

1. Ознакомиться с руководством к лабораторной работе по изучению параметров плазмы низкого давления в разряде с накаленным катодом в парах ртути. Изучить схему лабораторной установки, состоящей из блока накала катода, блока разрядного напряжения, блока управления потенциалом зонда. Ознакомиться с расположением органов управления.

2. Прогреть катод в течение пяти минут. Ток накала при этом поддерживать постоянным. Включить анодную цепь. Установить заданную величину разрядного тока. (При выключении схемы сначала снимается анодное напряжение, а потом выключается цепь накала.)

3. Снять вольтамперные характеристики цилиндрических зондов изменяя потенциал зонда в пределах от – 30 В до 0 при нескольких значениях разрядного тока, указанных преподавателем. Диаметр зондов 1 мм, высота рабочей части 10 мм, расстояние между зондами 30 мм. Для регистрации тока в цепи зонда используется несколько милли- и микроамперметров с разными пределами измерений, так как при снятии зондовых характеристик ток изменяется на несколько порядков и, кроме того, меняет направление своего движения.

---

КОНТРОЛЬНЫЕ ВОПРОСЫ

1. Что такое несамостоятельный разряд и как он возникает.

2.Укажите, от каких факторов зависит ток в несамостоятельном разряде.

3.Сформулируйте условие перехода разряда из несамостоятельного в самостоятельный.

4.Нарисуйте кривую Пашена и объясните ее ход.

5.Перечислите типы самостоятельных разрядов и укажите условия возникновения каждого из них.

6.Сформулируйте условия возникновения искрового разряда и дайте его феноменологическое описание.

7.Почему искровой разряд имеет прерывистый характер и сопровождается характерными звуковыми эффектами.

8.Укажите области применения искрового разряда в технике и технологии.

9.Сформулируйте условия возникновения дугового разряда и дайте его феноменологическое описание.

10.Укажите области применения дугового разряда в технике и технологии.

11.Сформулируйте условия возникновения тлеющего разряда и дайте его краткое феноменологическое описание.

12.Укажите особенности катодных областей тлеющего разряда.

13.Чем характеризуется нормальный тлеющий разряд и при каких условиях он существует.

14.Укажите применения катодных областей тлеющего разряда в технике и технологии.

15.Сформулируйте условия возникновения коронного разряда и дайте его феноменологическое описание.

16.Укажите области применения коронного разряда в технике и технологии.

17.Высокочастотные разряды и их применение.

18.Сверхвысокочастотные разряды и их применение.

19.Сформулируйте понятия плазмы и ее разновидностей (высокотемпературная, низкотемпературная, изотермическая, неизотермическая).
СОДЕРЖАНИЕ ОТЧЕТА

1. 
   Цель работы. Схема лабораторной установки.
   
2. 
   Таблицы экспериментальных данных.
   
3. 
   Построенные зависимости и .
   
4. 
   Рассчитанные параметры плазмы: потенциал плазмы в месте нахождения зондов, температуру электронного газа, концентрацию заряженных частиц, направленную скорость движения, продольную напряженность поля в положительном столбе.
   
5. 
   Выводы по результатам исследований.
   

Литература:

[7]-C.92-112.

Методическая литература:

[13]-C.5-10

Литература для лабораторных работ

Основная

1. 
   Игумнов В.Н. Физические основы микроэлектроники - Йошкар-Ола: МарГТУ, 2010. -296 с.
   
2. 
   Гуртов В.А. Твердотельная электроника-М.: Техносфера,2005.-512с.
   
3. 
   Спиридонов О.П. Физические основы твердотельной электроники-М, :ВШ,2008.- 191с.
   

---

Дополнительная

4. 
   Игумнов В.Н. Основы высокотемпературной криоэлектроники - Йошкар-Ола: МарГТУ, 2006. -188 с.
   
5. 
   Приборы физической электроники-М.: ВШ,2008.- 229 с.
   
6. 
   Щука А. А. Электроника. Учебное пособие. – М. :ВШ,2008.- 629 с.
   
7. 
   Светцов В.И. Вакуумная и плазменная электроника-Иваново : Иван. гос. хим.-технол. ун-т,2006-172с
   

Учебно-методическая

8. 
   Игумнов В.Н. Физические основы микроэлектроники. Практикум - Йошкар-Ола: МарГТУ, 2008. -204 с.
   
9. 
   Физические процессы в биполярном транзисторе - Йошкар-Ола: МарГТУ, 2010. -54 с.
   
10. 
    Игумнов В.Н. Физические основы микроэлектроники и электроники- Йошкар-Ола: МарГТУ, 2010. -54 с.
    
11. 
    Физические основы оптоэлектроники- Йошкар-Ола: МарГТУ, 2004. -52 с.
    
12. 
    Лаврентьев В.В., Атаманов В.Н. Тиристоры в устройствах промышленной электроники: Метод. указания / Под ред. А.Б. Красовского. - М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э .Баумана, 1997. - 16 с., ил.
    
13. 
    Исследование газоразрядной плазмы методом зондов - Йошкар-Ола: МарГТУ, 2004. -52 с.
    
14. 
    Термоэлектронная эмиссия и прохождение тока в вакууме :Методические указания к выполнению лабораторной работы -Томск: изд. ТПУ, 2007. - 19 с.
    
15. 
    Электронные образовательные ресурсы: Интернет-лаборатория «ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОНИКИ» www.pilab.ru. 2012
    

---

Смотрите также файлы

• Питер Нортон.docx

• Сайысты таырыбы Дрыс таматана білеміз бе Масаты.docx

• Финансы предприятий и организаций.docx

• Аннотация к рабочей программе Технология. Индустриальные технологи в 58 классах.doc

• 1. 1 Сущность, цели и функции системы управления персоналом.docx