Файл: Методичка материаловедение 01_10 (кр версия).doc

Добавлен: 31.01.2019

Просмотров: 4560

Скачиваний: 45

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Третья составляющая термоэдс возникает в контуре вследствие увлечения электронов квантами тепловой энергии (фононами). Их поток также распространяется к холодному концу. Все составляющие термоэдс определяются небольшой концентрацией электронов, расположенных на энергетических уровнях, близких к уровню Ферми, и отстоящих от него на величину порядка kT. Поэтому удельная термоэдс для металлов оказывается очень небольшой. Квантовая теория дает следующее выражение для удельной термоэдс одновалентных металлов:


(8.3)


где k =1,38 10–23Дж/К – постоянная Больцмана, e = –1,6 10–19 – заряд электрона.

При комнатной температуре отношение kT/WF имеет значение порядка 10-3 . Поэтому Т должна составлять несколько мкВ/К.

Существенно большее значение удельной термоэдс можно получить при использовании металлических сплавов, которые имеют сложную зонную структуру.

Металлические термопары широко используются для точного измерения температуры. В процессе измерений необходимо стабилизировать температуру одного из спаев.

В реальных условиях полностью исключить перепады температуры практически невозможно. Поэтому в электрических цепях могут возникать паразитные термоэдс. Для уменьшения их влияния в цепях электроизмерительных приборов следует подбирать контактирующие материалы с малыми значениями Т.


8.4. Используемое оборудование


«Модуль питания», модуль «Магнитомягкие материалы и тепловой коэффициент сопротивления / емкости», модуль «Мультиметры», «ТКС проводников», соединительные проводники.


8.5. Задание на выполнение лабораторной работы


1. Измерить термоэдс U и разность температур горячего спая tг и свободных концов tс.

2. На основании формулы (8.2) вычислить удельную термоэдс исследуемой термопары.


8.6. Программа работы


1. Прочитать методические указания по подготовке и проведению лабораторной работы.

2. Получить у преподавателя вариант задания исходных данных к работе.

3. При ознакомлении с рабочим местом проверить наличие необходимых приборов и соединительных проводников (в случае отсутствия какого-либо ком­плектующего элемента типового комплекта необходимо немедленно сообщить об этом преподавателю или техническому персоналу);

4. Перед сборкой цепи проверить, чтобы все приборы на рабочем столе бы­ли выключены;

5. Согласно рисунку 1.12 выполнить электрические соединения модулей. Монтаж схемы производить при отключенном питании.

В качестве нагревателя использовать минимодуль «ТКС проводников» (он оснащен двумя термопарами).

В качестве источника питания для нагрева «15В» использовать нерегули­руемый выход модуля питания «15В».

В качестве термометра Р1 использовать мультиметр в режиме измерения температуры «С0».

В качестве вольтметра PV1 использовать мультиметр в режиме измерения постоянного напряжения с пределом 200 мВ. Для подключения исследуемой тер­мопары к вольтметру необходимо использовать щупы с зажимами. Подключить «+» термопары к гнезду «VΩHz» мульгиметра P1, а «–» к гнезду «СОМ».



Рис. 8.3. Схема электрическая соединений типового комплекта для измерения термоэдс


После проверки правильности соединений схемы преподавателем или ла­борантом, подать напряжение питания на комплект включением автоматического выключателя и УЗО «Модуля питания».

Включить мультиметры. Если термопара не соединена с гнездами мультиметра Р1, на его индикаторе будет отображаться комнатная температура (ком­натная температура равна температуре свободных концов tс). Соединить термо­пару с гнездом «ТЕМР» мультиметра Р1 и, в случае если показания температуры на мультиметре ниже комнатной, изменить полярность подключения выводов термопары (перевернуть вилку). Заносить значение температуры в табл. 8.1.


Таблица 8.1


Температура свободных концов tс, С0


п.п.

tг, 0C

U, В

tг – tс, 0C

т

1





2





.





6. Измерить температуру рабочего спая tг мультиметром P1 и термоэдс U мультимегром PV1. Значения заносить в табл. 8.1.

7. Заносить показания мультиметров в табл. 8.1 через 5 – 10С°. Не на­гревать минимодуль более 100С°.

8. Рассчитать разность температур рабочего спая и свободных концов тер­мопары, для каждого пункта табл. 8.1.

9. Построить график зависимости U(tг – tс). По графику определить относи­тельную удельную термоэдс т, как тангенс угла наклона графика, и сравнить со справочным значением для данной термопары.

10. После оформления отчета и проверки результатов преподавателем необ­ходимо разобрать схему, предоставить комплект в полном составе и исправности преподавателю или лаборанту.


8.7. Содержание отчета


1. Название работы. Цель работы.

2. Используемое оборудование и схемы электрических соединений.

3. Результаты измерений.

4. Результаты расчётов и построенные опытные зависимости (графики).

5. Краткие выводы по каждой работе, анализ полученных результатов:

сравнение опытных зависимостей (графиков) с теоретическими;

сравнение полученных экспериментальных значений с табличными, с обязательными ссылками на источники информации;

сопоставление их расхождений с точностью измерений.

6. Обобщающий вывод по всей лабораторной работе. Вывод включает в себя:

а) основные численные результаты работы;

б) погрешность измерений, в случае относительной погрешности более 15% обязательны анализ и указание причин, приведших к снижению точности эксперимента.


8.8. Контрольные вопросы


1. В каких условиях возможно появление термоэдс в замкнутой цепи?

2. Назовите основные механизмы возникновения термоэдс.

3. Приведите определение рабочего спая термопары?

4. Каков физический смысл относительной удельной термоэдс?



ПОЛУПРОВОДНИКИ


Большая группа материалов с электронной п и дырочной р про­водимостью, удельное сопротивление которых при температуре 20 °С больше, чем у проводников, но меньше, чем у диэлектриков, относится к полупроводникам. С точки зрения зонной теории твердого тела, к полупроводникам относятся те материалы, ширина запрещенной зоны (33) которых имеет величину в пределах от 0,05 до 3 эВ.

Электрофизические характеристики полупроводниковых мате­риалов зависят не только от их природы, но и от интенсивности внешнего энергетического воздействия, природы и концентрации легирующей примеси – примеси, которую специально вводят в по­лупроводниковый материал для создания определенного типа и ве­личины электропроводности. Полупроводниковый материал, ис­пользуемый для изготовления приборов, должен иметь очень высокую степень чистоты.

Управляемость удельной электропроводностью полупроводниковых материалов посредством температуры, света, электрического поля, механического напряжения положена в основу принципа действия соответствующих приборов: терморезисторов, фоторезисторов, нелинейных резисторов (вариаторов), тензорезисторов и т.д.

Наличие двух или более взаимно связанных p-n-переходов обра­зуют управляемые системы – кристаллические транзисторы и тири­сторы. Полупроводниковые системы широко используют для преоб­разования различных видов энергии в электрическую и наоборот.

Величина и тип электропроводности полупроводников зависят от природы и концентрации примеси, в том числе специально введенной (легирующей).

Концентрация легирующей примеси обычно незначительна, на­пример у Ge она составляет один атом на 1010–1012 атомов полупро­водника. В этой связи все полупроводники можно разбить на две группы: собственные и примесные.

Собственные полупроводники не содержат легирующие примеси; к ним относятся высокой степени чистоты простые полупроводники: кремний Si, германий Ge, селен Se, теллур Те и др. и многие полу­проводниковые химические соединения: арсенид галлия GaAs, антимонид индия InSb, арсенид индия InAs и др.

Примесные полупроводники всегда содержат донорную или ак­цепторную примесь. В производстве полупроводниковых приборов примесные полупроводники используют чаще, поскольку в них свободные носители заряда образуются при более низких темпера­турах (чем в собственных полупроводниках), которые отвечают рабо­чему интервалу температур полупроводникового прибора.

Электропроводность собственных полупроводников. В собственных полупроводниках при достаточности тепловой энергии решетки или в результате внешнего энергетического воздей­ствия электрон(ы) перейдет(ут) из валентной зоны (ВЗ) в зону про­водимости (ЗП) и станет(ут) свободным(и). Необходимая для этого перехода энергия определяется шириной запрещенной зоны (33) – W полупроводника. При комнатной температуре эта энергия может возникать вследствие флуктуации тепловых колебаний решетки (средней теп­ловой энергии решетки для такого перехода недостаточно). С уходом электрона в ЗП в валентной зоне остается свободным энергетиче­ский уровень, называемый дыркой, а сама ВЗ становится не полно­стью заполненной (рис. __, а). Электрон имеет отрицательный за­ряд, дырку принято считать положительно заряженной частицей, численно равной заряду электрона.



Рис. ____. Энергетические диаграммы полупроводников:

а – полупроводник без лигирующей примеси; б – полупроводник (p-типа) с акцепторной примесью; в – полупроводник (n-типа) с донорной примесью; Wa – энергия активации (образования) дырок в ВЗ полупроводника за счет перехода электронов на уровни акцептор­ной примеси; Wд – энергия активации электронов – энергия, необходимая для перехода электронов с уровней донорной примеси в ЗП полупроводника


Таким образом, в кристалле образуется пара свободных носите­лей заряда — электрон в ЗП и дырка в ВЗ, которые и создают соб­ственную электропроводность полупроводника, тип которой элек­тронно-дырочный.

В отсутствие внешнего электрического поля электрон и дырка совершают тепловые хаотические движения в пределах кристалла, а под действием поля осуществляют дополнительно направленное движение – дрейф, обусловливая тем самым электрический ток. Если концентрации свободных электронов и дырок равны между со­бой, то подвижность у них различна. В результате более низких зна­чений эффективной массы и инерционности при движении в поле кристаллической решетки свободные электроны более подвижны, чем дырки. Поэтому собственная электропроводность полупровод­ников имеет слабо преобладающий электронный тип.

Электропроводность примесных полупроводников. В примесных полупроводниках атомы примеси либо поставляют электроны в ЗП полупроводника, либо принимают их с уровней ВЗ. Эти переходы электронов осуществляются при существенно меньших за­тратах энергии, которые требуются электронам для преодоления по­тенциального барьера в виде 33 полупроводника. Поэтому эти виды переходов в примесных полупроводниках являются основными, до­минирующими над переходом электронов из ВЗ в ЗП.

Атомы примеси, размещаясь в запрещенной зоне полупроводни­ка, создают в пределах этой зоны дискретные энергетические уровни либо у нижнего ее края вблизи к ВЗ, либо – у верхнего, вблизи к (см. рис. ___, б, в). Вследствие своей малой концентрации атомы примеси располагаются в решетке полупроводника на очень боль­ших расстояниях друг от друга, поэтому между собой не взаимодей­ствуют.


Лабораторная работа № 9


ИЗУЧЕНИЕ ТЕМПЕРАТУРНОЙ ЗАВИСИМОСТИ СОПРОТИВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ


9.1. Цель работы


Изучить зависимость сопротивления полупроводника от температуры. Научиться определять энергию активации полупроводников в джоулях по зависимости ln от обратной температуры 1/T.


9.2. Задачи работы


1. Для исследуемых образцов определить темпе­ратурные коэффициенты сопротивления ТКR.

2. Вычислить энергию активации полупроводников для исследуемых образцов.


9.3. Краткие теоретические сведения


При температуре 0 К и в отсутствие другого энергетического воз­действия все валентные электроны полупроводника на­ходятся на энергетических уровнях ВЗ. В этом состоянии полупро­водник подобен диэлектрику и его проводимость равна нулю. Для переброса электронов из ВЗ в ЗП нужна дополнительная энергия для преодоления потенциального барьера в виде 33. При температуре большей 0 К и дальнейшем ее повышении электроны под действием тепловой энергии начнут переходить в ЗП; в результате образуются пары свободных носителей заряда – электроны в ЗП, а дырки – в ВЗ. Этот процесс называют тепловой генерацией свободных носите­лей заряда. В ЗП (благодаря наличию свободных уровней) электроны под действием приложенного электрического поля будут переме­щаться с уровня на уровень, образуя электрический ток. Аналогично в ВЗ дырки образуют электрический ток. Одновременно с тепловой генерацией свободных носителей заряда существует и обратный про­цесс, когда свободный электрон возвращается в незаполненную ВЗ. Этот процесс называется рекомбинацией электрона с дыркой. При за­данной температуре между этими процессами осуществляется термо­динамическое равновесие, в результате чего в ЗП устанавливается некоторая, вполне определенная концентрация свободных электро­нов, а в ВЗ – дырок проводимости.


В примесных полупроводниках переходы электронов из ВЗ полупроводника на уровни акцепторной примеси и с локальных уровней донорной примеси в ЗП полупроводника осуществляются при более низких затратах энергии, чем переход электронов из ВЗ собст­венного полупроводника в его ЗП, т. е. W > Wа (Wд ). Поэтому элек­тропроводность примесных полупроводников начинает проявляться при более низких температурах, чем электропроводность собственных полупроводников.

Вероятность переходов носителей заряда на свободные уровни энергии и, следовательно, величина электропроводности сильно возрастают с ростом температуры. Зависимость удельной электропро­водности от температуры в общем виде выражается экспоненци­альной функцией:


,


где А – постоянная величина; Wширина 33, эВ; k – постоянная Больцмана, равная 1,38 10–23 Дж/К; Т – абсолютная температура.

Для полупроводников с одним типом носителей заряда удельная электропроводность , См/м, определяется тем же выражением:


 n q a, (9.1)


где п – концентрация свободных носителей заряда, м–3; q – величи­на заряда каждого из них, Кл; а – их подвижность – отноше­ние дрейфовой скорости V свободных носителей заряда к напряжен­ности Е электрического поля, вызвавшего дрейфовую скорость  V/E, [(м/с)/(В/м) = м2/(В с)]). Поскольку подвижность а носителя заряда имеет тот же знак, что и его заряд q, удельная электропровод­ность , получаемая из формулы (9.1), всегда будет положительной независимо от знака заряда.

В широком интервале температуры концентрация свободных но­сителей заряда п и их подвижность а изменяются по различным зако­нам. Поэтому зависимость удельной электропроводности примесных полупроводников от обратной температуры в широком интервале име­ет сложный характер. В общем виде эта зависимость представлена на рис. 9.1, на котором видны области примесной электропроводности пр (участок АБ) и собственной соб (участок ВГ). При этом  = соб + пр.


Рис. 9.1. Температурная зависимость удельной электропроводности примесного полупровод­ника с различной концентрацией N примеси: АБ и А'Б' участки, характеризующие примесную электропроводность; ВГучасток, характеризую­щий собственную электропроводность; БВ и Б'В' области насыщения.


Собственную электропроводность и примесную можно опреде лить с помощью следующих уравнений:


, (9.2)


, (9.3)


где A – постоянная величина; kпостоянная Больцмана; Т абсо­лютная температура. Уравнение (9.3) справедливо, пока не наступит полная иониза­ция примеси.

Таким образом, собственная и примесная электропроводности полупроводниковых материалов с ростом температуры возрастают, т.е. они обладают отрицательным коэффициентом сопротивления.

Прологарифмировав уравнения (9.2) и (9.3), получим:


,


.


Из выражений (9.3, 9.3) получаем выражение для удельного сопротивления полупроводника