ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 12.01.2024
Просмотров: 127
Скачиваний: 1
ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.
где Σ — результирующая подвижность носителей заряда в полупроводнике; i— подвижность, обусловленнаяiмеханизмом рассеяния. Так, например, в области высоких температур Σ контролируется вкладом в рассеяние тепловых колебаний решетки , и с ростом температуры уменьшается. В области низких температур, когда вклад решеточного рассеяния в Σ мал, носители заряда, имеющие малую , длительное время оказываются в поле кулоновских сил (притяжения или отталкивания) ионизированных примесей. Именно этот механизм рассеяния «контролирует» Σ в полупроводниках при низких температурах. Поэтому подвижность носителей заряда в зависимости от температуры определяются полуэмпирическим соотношением вида:
, (7)
где aи b — постоянные величины.
Качественная зависимость lnΣ(T) в кристаллах вида (7) представлена на рис. 5. На этом рисунке кривые 1 и 2 иллюстрируют тот факт, что возрастание концентрации примесей (Nпр1<Nпр2) уменьшается Σ в области низких температур, оставляя неизменным механизм решеточного рассеяния в кристалле.
Решеточное рассеяние на акустических фононах преобладает при T >100 K. При этом в области истощения примеси, когда можно положить
Рис. 5. Температурная зависимость подвижности носителей заряда
в полупроводниках с различными концентрациями примеси. Nпр1
удельная электропроводность может уменьшаться с увеличение температуры за счет уменьшения подвижности носителей Σ(T) из-за рассеяния носителей заряда на акустических фононах.
ЗАДАНИЕ ДЛЯ РАСЧЕТНО-ГРАФИЧЕСКОЙ
РАБОТЫ
Тема: расчет температурной зависимости
электропроводности примесного полупроводника
Формулировка задания:
Имеется слабо легированный полупроводник на основе германия или кремния с донорной или акцепторной примесью. Электропроводность такого полупроводника определяется концентрацией основных носителей заряда и их подвижностью.
1. Определить аналитически температуру истощения примеси и температуру перехода к собственной проводимости . Определить концентрацию основных носителей заряда электронов (или дырок ) в трех температурных областях (рис. 4):
I — область ( ) при Т = 20 К;
II — область ( ) при Т = 300 К;
III — область ( ) при Т = 700 К.
2. Построить зависимость натурального логарифма проводимости электронного или дырочного проводника от обратной температуры в диапазоне 300 ─ 700 К.
Данные по типу полупроводника, виду и концентрации примеси, энергии ионизации выбрать по вариантам из табл. 1.
Таблица 1.
Варианты заданий
№ | Полупроводник | Примесь | Тип примеси | Энергия ионизации,эВ | Концентрация примеси, 1/м3 |
1 | Si | B | A | 0,045 | 61021 |
2 | Ge | B | A | 0,0104 | 11021 |
3 | Si | Al | A | 0,057 | 31021 |
4 | Ge | Al | A | 0,0102 | 2,51021 |
5 | Ge | P | Д | 0,0120 | 21021 |
6 | Si | P | Д | 0,044 | 51021 |
7 | Ge | As | Д | 0,0127 | 41021 |
8 | Si | As | Д | 0,049 | 31021 |
9 | Ge | Ga | A | 0,0108 | 7,51021 |
10 | Si | Ga | A | 0,065 | 81021 |
11 | Ge | In | A | 0,0108 | 1,51021 |
12 | Si | In | A | 0,16 | 11021 |
13 | Ge | Sb | Д | 0,0096 | 6,51021 |
14 | Si | Sb | Д | 0,039 | 1,51021 |
15 | Si | Bi | Д | 0,3 | 91021 |
16 | Si | Ni | Д | 0,069 | 8,51021 |
17 | Ge | Bi | Д | 0,01 | 11021 |
18 | Si | B | A | 0,045 | 21021 |
19 | Si | As | Д | 0,049 | 11022 |
20 | Ge | As | Д | 0,0127 | 21022 |
21 | Ge | Ga | A | 0,0108 | 21021 |
22 | Si | Ga | A | 0,065 | 11021 |
23 | Ge | Li | Д | 0,0093 | 31021 |
24 | Si | Li | Д | 0,033 | 51021 |
25 | Ge | Cu | Д | 0,04 | 41021 |
Указания по выполнению:
1.Формулы для расчета концентрации электронов и дырок в области I имеют вид:
, (7)
, (8)
где — энергия ионизации донорной примеси, — энергия ионизации акцепторной примеси, и — концентрация донорной и акцепторной примеси; , — эффективные плотности состояний в зоне проводимости и в валентной зоне, — эффективные массы электрона в зоне проводимости и дырки в валентной зоне, , — постоянная Больцмана, — постоянная Планка.
Температура истощения примеси (рис. 4) находится из условия или (после логарифмирования) по формулам:
, . (9)
В области II истощения примеси для расчета концентрации электронов и дырок приблизительно можно принять , , поскольку процесс генерации носителей заряда за счет разрыва собственных связей в полупроводнике (область III) при этих температурах пренебрежем. Для более точного расчета к указанным значениям и надо прибавить собственную концентрацию основных носителей полупроводника.
Формулы для расчета концентрации электронов и дырок в области III имеют вид:
, (10)
где — ширина запрещенной зоны.
Ширину запрещенной зоны принять для германия равной 0,66 эВ, а для кремния -1,08 эВ.
Температура перехода к собственной проводимости находится из условия или :
, . (11)
Эффективные массы электронов и дырок для германия принять равными , а для кремния , . Здесь — масса свободного электрона.
2. Определить электропроводность соответственно донорного полупроводника или акцепторного проводника в температурном диапазоне от 300 до 700 К по формулам:
, (12)
, (13)
где — заряд электрона, и — подвижности электронов и дырок. В этих формулах учитываются как носители, обусловленные наличием примесей, так и собственные носители полупроводника.
Температурную зависимость подвижности электронов и дырок, с учетом того, что в задании речь идет о температурах выше комнатной (и, следовательно, доминирующим будет механизм рассеяния на колебаниях атомов решетки), представить в виде:
, (14)
, (15)
где и — подвижности электронов и дырок, измеренные при 300 К.
Принять для германия , , а для кремния , .
График температурной зависимости логарифма электропроводности от обратной температуры удобно строить в масштабе .
ПРИМЕР ВЫПОЛНЕНИЯ
РАСЧЕТНО-ГРАФИЧЕСКОЙ РАБОТЫ
Задание
Исследовать примесный полупроводник на основе германия (Ge) легированный мышьяком (As) с концентрацией донорной примеси =110221/м3 и энергией ионизации =0,0127 эВ. Определить концентрацию основных носителей (электронов) в трех областях при температурах Т = 20 К,
Т = 300 К, Т = 700 К. Определить аналитически температуру истощения примеси и температуру перехода к собственной проводимости . Определить электропроводность полупроводника на участке перехода от примесной к собственной проводимости в температурном диапазоне от 300 до 700 К. Построить график зависимости .
Решение
Приведем формулы для расчета эффективной плотности состояний в зоне проводимости и в валентной зоне к виду
= = =4,83×10210,419 =2,02×1021 1/м3, (16)
= = =4,83×10210,225 =1,09×1021 1/м3. (17)
Приведем формулу (10) для расчета концентрации донорных электронов в зоне проводимости к виду
= =(2,02×10211022) =
= 4,491021 1/м3.
Определим температуру истощения примеси из условия
.
Решая полученное трансцендентное уравнение, получим = 38 K.
Рассчитаем концентрацию электронов в зоне проводимости при Т = 20 К
n1 = 4,49×1021 = 1,07·1021 1/м3,
то есть концентрация электронов проводимости при этой температуре на порядок меньше концентрации примесей.
Приведем формулу (10) для расчета собственных носителей заряда с учетом (16) и (17) к виду
= 1,484×1021 =
= 1,484×1021 1/м3. (18)
Определим температуру перехода к собственной проводимости из условия
.
Решая полученное трансцендентное уравнение, получим .
Рассчитаем температурную зависимость электропроводности полупроводника по формуле (12). Для этого приведем формулу (18) к 300 К:
ni = 1,484×1021 =
2,231019 1/м3 (19)
Рассчитаем концентрацию электронов в зоне проводимости n2 при Т = 300 К. Для этого сложим концентрацию носителей заряда, обеспеченную всеми инизированными донорами с собственной концентрацией электронов, рассчитываемой по формуле (19)
n2 = Nd + ni = 1×1022 + 3,23×1019 = 1,022·1022 1/м3,
то есть с точностью порядка двух процентов равна концентрации донорных электронов.
Рассчитаем концентрацию электронов n3при температуре Т = 700 К по формуле (19) с учетом числа донорных электронов
n3 = Nd + ni = 1×1022 + 10,96×1022 = 11,96·1022 1/м3.
Расчет показал, что при этой температуре количество собственных электронов превысило примерно на порядок количество примесных электронов.
Подставив (19), (14) и (15) в (12), получим
1,610-192,231019(0,39+0,18) +
+1,610-1910220,39 =
= 2,03 +624 (20)
Результаты расчета по формуле (20) приведены в табл. 2.
Таблица 2
Результаты расчета
Температура полупроводника, К | 300 | 350 | 400 | 450 | 500 | 550 | 600 | 650 | 700 |
1000/Т, К-1 | 3,33 | 2,86 | 2,50 | 2,22 | 2,0 | 1,82 | 1,67 | 1,54 | 1,43 |
Электропроводность полупроводника, (Ом·м)-1 | 626 | 507 | 453 | 480 | 618 | 912 | 1395 | 2122 | 3094 |
lnγd. (Ом·м)-1 | 6,44 | 6,23 | 6,12 | 6,17 | 6,43 | 6,82 | 7,24 | 7,66 | 8,06 |
На рис. 6. представлена искомая зависимость удельной электропроводности от обратной температуры для исследуемого полупроводника.
Рис.6. Зависимость удельной электропроводности от обратной температуры для исследуемого полупроводника
Как видно из данных табл. 2 и рис. 6, электропроводность полупроводника на участке истощения примесей ( ) при нагревании до температур выше комнатной, уменьшается с увеличением температуры вплоть до — температуры перехода к собственной проводимости. В дальнейшем с увеличением температуры электропроводность резко растет (по экспоненте) за счет интенсивной генерации полупроводником собственных носителей заряда.
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК
Основной:
1. Савельев И. В. Курс физики. М.: Лань, 2008. — Т. 3.
2. Пщелко Н.С. Физические основы полупроводниковой электроники, учеб. пособие / Н. С. Пщелко, А. С. Мустафаев, К. Л. Левин — [Электронный ресурс], контрольный номер RU/IS/BASE/463508393 — СПб: Нац. минер.-сырьевой ун-т «Горный», 2013 — 254 с.
3. Чуркин Ю. В. Физика твёрдого тела / Ю. В. Чуркин, С. В. Субботин. — СПб.: Изд-во СЗТУ, 2008.
Дополнительный:
4. Трофимова Т. И. Курс физики / Т. И. Трофимова.— М.: Высшая школа, 2004 [и др. г. Изд
5. Детлаф А.А. Курс физики: учеб. пособие / А. А. Детлаф, Б. М. Яворский. — М.: Высш. шк., 2003 [и др. г. изд.].
6. Парфенова И. И.Квантовая механика, физика твёрдого тела и элементы атомной физики / И. И. Парфенова, С.В. Егоров, А.С. Мустафаев и др. — Сборник задач для студентов технических специальностей. — СПб.: СПГГИ (ТУ), 2010. — 112 с.
7. Томаев В. В., Общая физика. Физика твёрдого тела. Зонная теория твердых тел. Контактные и магнитные явления в твёрдых телах. Метод. указания к лабораторным работам / В. В. Томаев, Т. В. Стоянова, К. Л. Левин. — СПб.: 2012.
8. Шерстюк А.И. Физика твердого тела: лекции / А. И. Шерстюк. — СПб.: Изд-во СЗТУ, 2003. — 151 с.
ПРИЛОЖЕНИЯ
1. НЕКОТОРЫЕ ФИЗИЧЕСКИЕ ПОСТОЯННЫЕ
(ОКРУГЛЕННЫЕ ЗНАЧЕНИЯ)
Физическая постоянная | Обозначение | Значение |
Постоянная Авогадро | NA | моль-1 |
Универсальная газовая постоянная | R | |
Постоянная Больцмана | k | |
Элементарный заряд | е | Кл |
Скорость света в вакууме | с | м/с |
Электрическая постоянная | | Ф/м |
Магнитная постоянная | | Гн/м |
Постоянная Планка | | Дж |
Масса электрона | m | |
2. МНОЖИТЕЛИ И ПРИСТАВКИ ДЛЯ ОБРАЗОВАНИЯ
ДЕСЯТИЧНЫХ КРАТНЫХ И ДОЛЬНЫХ ЕДИНИЦ
И ИХ НАИМЕНОВАНИЙ
Приставка | |||
Наименование | Обозначение | Множитель | |
экса | Э | 1018 | |
пэта | П | 1015 | |
тера | Т | 1012 | |
гига | Г | 109 | |
мега | М | 106 | |
кило | к | 103 | |
гекто | г | 102 | |
Дека | да | 101 | |
Деци | д | 10–1 | |
Санти | с | 10–2 | |
Милли | м | 10–3 | |
Микро | мк | 10–6 | |
Нано | н | 10–9 | |
Пико | п | 10–12 | |
Фемто | ф | 10–15 | |
Атто | а | 10–18 |
1 2 3 4 5
3. ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
НЕКОТОРЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
(температура комнатная)
Тип полупроводника | Ширина запрещенной зоны | Удельное сопротивление | Подвижность | |
Еg | Электроны | Дырки | ||
| эВ | | | |
Собственный германий | 0,66 | 0,5 | 0,39 | 0,19 |
Собственный кремний | 1,1 | | 0,15 | 0,05 |
Арсенид галлия | 1,43 | | 0,85 | 0,042 |
4. ГРЕЧЕСКИЙ АЛФАВИТ
Обозначения букв | Названия букв |
, | альфа |
, | бета |
, | гамма |
Δ, | дельта |
, | эпсилон |
, | дзета |
, | Эта |
, | тхэта |
, | йота |
, | каппа |
, | ламбда |
, | мю |
, | ню |
, | кси |
, | омикрон |
, | пи |
, | ро |
, | сигма |
T, | тау |
, | ипсилон |
, | фи |
, | хи |
, | пси |
, | омега |
СОДЕРЖАНИЕ
Рекомендации к выполнению расчетно-графических работ…......3
Теоретические основы физики твердого тела…………………......5
Задание для расчетно-графической работы………………………20
Пример выполнения расчетно-графической задачи……………..25
Библиографический список………………………………………..29
Приложения………………………………………………………...30