Файл: Учебнометодический комплекс по дисциплине электрооборудование фармацевтического производства для специальности 5В074800 Технология фармацевтического производства.doc
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 11.01.2024
Просмотров: 212
Скачиваний: 1
ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.
, (23)
где - температурный потенциал.
Контактная разность потенциалов зависит от:
- ширины запрещенной зоны полупроводника, при одинаковых концентрациях примесей она выше у полупроводников с большей шириной запрещенной зоны;
- концентрации примесей в смежных областях полупроводника. При их увеличении контактная разность потенциалов возрастает;
- температуры полупроводника. При ее увеличении контактная разность потенциалов уменьшается.
Прямое включение p-n перехода
При подключении к р-n переходу внешнего электрического поля динамическое равновесие токов через переход нарушается. поведение перехода при этом зависит от полярности приложенного напряжения. Если внешнее напряжение приложено навстречу контактной разности потенциалов, то такое включение р-n перехода называется прямым (рис. 15,а).
При |Uк| = |Uпр| толщина р-n перехода стремится к нулю и при дальнейшем увеличении Uпр запирающий слой исчезает. Вследствие этого электроны и дырки начинают свободно диффундировать в смежные области полупроводника.
Через переход протекает ток, который называется прямым. Процесс переноса носителей заряда через прямосмещенный электронно-дырочный переход в область полупроводника, где они становятся неосновными носителями, называется инжекцией.
В несимметричном р-n переходе, когда концентрация электронов в n-области во много раз больше концентрации дырок в р-области, диффузионный поток электронов во много раз превышает поток дырок и ими можно пренебречь. В этом случае имеет место односторонняя инжекция электронов. Область, из которой происходит инжекция, называется эмиттером, а область, в которую инжектируются носители,- базой.
Рисунок 15
Неравновесные неосновные носители зарядов диффундируют вглубь полупроводника и нарушают его электронейтральность. Восстановление электронейтральности происходит за счет поступления носителей заряда от внешнего источника взамен ушедших к р-n переходу и исчезнувших в результате рекомбинации. Это приводит к появлению электрического тока во внешней цепи –
прямого тока.
Обратное включение p-n перехода
При обратном включении р-n перехода внешнее напряжение приложено знаком «+» к n-области (рис. 16,а). Создаваемое им электрическое поле совпадает по направлению с внутренним полем перехода, увеличивая высоту потенциального барьера (рис. 16,б).
Сопротивление р-n перехода для прохождения тока основных носителей увеличивается. Происходит изменение в соотношении токов через р-n переход. Диффузионный ток уменьшается и в предельном случае с ростом потенциального барьера стремится к нулю.
Рисунок 16
Для неосновных носителей заряда поле в р-n переходе остается ускоряющим, они захватываются им и переносятся через р-n переход. Процесс переноса неосновных носителей заряда через обратносмещенный р-n-переход в область полупроводника, где они становятся основными носителями, называется экстракцией.
Дрейфовый ток, создаваемый неосновными носителями, называется тепловым током IT.
По своему направлению тепловой ток противоположен току диффузии и поэтому результирующий ток р-n перехода
Iобр = Iдиф – IТ. (24)
При |Uвн| >> Uк током основных носителей можно пренебречь. Поэтому тепловой ток IT в этом случае называют током насыщения.
Таким образом, р-n обладает вентильными свойствами:
- при приложении прямого напряжения через переход протекает электрический ток, значение которого при повышении напряжения увеличивается по экспоненциальному закону. Сопротивление перехода минимально;
- при смещении р-n перехода в обратном направлении его сопротивление возрастает, и через переход протекает малый тепловой ток.
Вольтамперная характеристика р-n перехода
Вольтамперная характеристика (ВАХ) р-n перехода представляет собой зависимость тока через переход от величины и полярности приложенного напряжения. Аналитически ВАХ представляется экспоненциальной зависимостью
, (25)
где I0 – обратный ток насыщения p-n перехода, который определяется физическими свойствами полупроводника и имеет небольшую величину.
Вольтамперная характеристика показана на рис. 17 и отражает физические процессы в р-n переходе.
Рисунок 17
При прямом смещении (Uпр > 0) р-n-переход имеет малое сопротивление и через него протекает прямой ток.
При (точка 1) потенциальный барьер исчезает и характеристика представляет собой почти прямую линию, наклон которой определяется сопротивлением базы.
При обратном смещении сопротивление перехода велико и через него протекает небольшой обратный ток, приближающийся по величине к значению I0.
Таким образом, р-n переход характеризуется свойством односторонней проводимости. Это позволяет использовать р-n-переход как выпрямитель переменного тока.
Параметрами ВАХ являются:
- Rдиф – дифференциальное сопротивление при прямом смещении:
; (26)
R0 = Rст – сопротивление постоянному току.
. (27)
Пробой р-n перехода
Резкое возрастание обратного тока р-n перехода при достижении обратным напряжением определенного критического значения называется пробоем р-n перехода. Различают два вида пробоя перехода: электрический и тепловой.
При электрическом пробое количество носителей в переходе возрастает под действием сильного электрического поля и ударной ионизации атомов решетки. Различают следующие виды электрического пробоя: лавинный, туннельный и поверхностный.
Если переход сохраняет свои свойства после пробоя при уменьшении обратного напряжения, то такой пробой называется обратимым. К обратимым относятся лавинный и туннельный пробои.
Если пробой приводит к выходу р-n перехода из строя, то его называют необратимым. Необратимый пробой бывает двух видов: тепловой и поверхностный.
Полупроводниковые диоды
Полупроводниковым диодом называется электропреобразовательный прибор, содержащий один или несколько переходов и два вывода для подключения к внешней цепи. Полупроводниковый диод как элемент электрической цепи является нелинейным двухполюсником, имеет два вывода и нелинейную ВАХ.
Большинство полупроводниковых диодов выполняют на основе несимметричных р-n переходов.
Полупроводниковые диоды классифицируются по типу исходного материала, конструктивно-технологическим особенностям, назначению и пр.
По типу исходного материала диоды бывают германиевые, кремниевые, селеновые, карбид-кремниевые, арсенид-галлиевые и др.
По конструктивно-технологическим особенностям диоды бывают точечные, сплавные, микросплавные, диффузионные, эпитаксиальные, с барьером Шотки, поликристаллические и др.
По назначению диоды делятся на
- выпрямительные (силовые), предназначенные для преобразования переменного напряжения источников питания промышленной частоты в постоянное;
- стабилитроны (опорные диоды), предназначенные для стабилизации напряжений, имеющих на обратной ветви ВАХ участок со слабой зависимостью напряжения от протекающего тока;
- варикапы, предназначенные для использования в качестве емкости, управляемой электрическим напряжением;
- импульсные, предназначенные для работы в быстродействующих импульсных схемах;
- туннельные и обращенные, предназначенные для усиления, генерирования и переключения высокочастотных колебаний;
- сверхвысокочастотные, предназначенные для преобразования, переключения, генерирования сверхвысокочастотных колебаний;
- светодиоды, предназначенные для преобразования электрического сигнала в световую энергию;
- фотодиоды, предназначенные для преобразования световой энергии в электрический сигнал.
Биполярные транзисторы. Биполярным транзистором называется полупроводниковый прибор с двумя взаимодействующими р-n переходами. Биполярные транзисторы различаются по структуре. В зависимости от чередования областей различают биполярные транзисторы типа «p-n-p» и «n-p-n» (рис. 18).
Область транзистора, расположенная между р-n переходами, называется базой. Область транзистора, из которой происходит инжекция носителей в базу, называется эмиттером, а соответствующий переход – эмиттерным.
Область транзистора, осуществляющая экстракцию носителей из базы, называется коллектором, а переход – коллекторным.
а) б)
Рисунок 18
По применяемому материалу транзисторы делятся на германиевые, кремниевые и арсенид-галлиевые.
По технологии изготовления транзисторы бывают сплавные, диффузионные, эпитаксиальные, планарные. Толщина базы делается значительно меньше диффузионной длины неосновных носителей в ней. При равномерном распределении примеси в базе внутренне электрическое поле в ней отсутствует, и неосновные носители движутся вследствие процесса диффузии. Такие транзисторы называются
диффузионными или бездрейфовыми. При неравномерном распределении примесей в базе имеется внутреннее электрическое поле, и неосновные носители движутся в ней в результате дрейфа и диффузии. Такие транзисторы называются дрейфовыми. Кроме того, концентрация атомов примесей в эмиттере и коллекторе (низкоомные области) значительно больше, чем в базе (высокоомная область).
Площадь коллекторного перехода больше эмиттерного, что способствует увеличению коэффициента переноса носителей из эмиттера в коллектор.
Режимы работы биполярного транзистора.
В зависимости от полярности внешних напряжений, подаваемых на выводы транзистора, различают следующие режимы его работы:
- активный режим – эмиттерный переход смещен в прямом направлении (открыт), а коллекторный – в обратном направлении (закрыт);
- режим отсечки – оба перехода смещены в обратном направлении;
- режим насыщения – оба перехода смещены в прямом направлении;
- инверсный режим – коллекторный переход смещен в прямом направлении, а эмиттерный – в обратном.
В зависимости от того, какой вывод транзистора является общим для входной и выходной цепей различают три схемы включения (рис. 19):
- с общей базой (ОБ);
- с общим эмиттером (ОЭ);
- с общим коллектором (ОК).
Рисунок 19
Принцип действия биполярного транзистора.
Под действием внешнего напряжения (рис. 20) Uэб эмиттерный переход смещен в прямом направлении, а под действием Uкб коллекторный переход – в обратном.
При увеличении Uэб снижается потенциальный барьер эмиттерного перехода, а так как концентрация электронов в эмиттере значительно больше концентрации дырок в базе, то происходит инжекция электронов из эмиттера в базу и дырок из базы в эмиттер. Это вызывает протекание токов инжекции: Iэn – электронного и Iэр – дырочного. Т.к. число дырок в области базы значительно меньше количества электронов в области эмиттера, то Iэр << Iэn .
Для количественной оценки составляющих полного тока эмиттерного перехода вводят параметр – коэффициент инжекции (эффективность эмиттерного перехода):
, (28)
который показывает, какую долю от общего тока эмиттера составляет ток инжектированных в базу носителей заряда.
На практике γ = 0,98…0,995. Дырки, инжектированные из области базы в область эмиттера, полностью рекомбинируют.