ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 29.04.2025

Просмотров: 9673

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

СОДЕРЖАНИЕ

1 Движение электрона в кристалле. Уравнение Шрёдингера, волновая функция

1.2 Движение электронов в атоме

1.3 Зонная теория твердого тела

Глава 2. Электропроводность полупроводников

2.1 Собственные и легированные полупроводники. Уравнение электронейтральности

2.2 Статистика электронов и дырок

2.2.1 Заполнение электронами зон вырожденного полупроводника

2.2.1 Заполнение электронами и дырками зон невырожденного полупроводника

2.2 Положение уровня Ферми и расчет концентрации носителей

2.2.1 Донорный полупроводник

2.3 Электропроводность полупроводников

2.3.1 Электронная проводимость

2.3.2 Дырочная проводимость

2.3.3 Собственная проводимость

Глава 3. Неравновесные электронные процессы

3.4 Диффузионный и дрейфовый токи

3.2. Неравновесные носители в электрическом поле

3.2.1. Уравнение непрерывности тока

5 Контакт электронного и дырочного полупроводников

5.1 Возникновение потенциального барьера. Контактная разность потенциалов.

5.2 Вольтамперная характеристика p-n-перехода

5.3 Температурные зависимости вах pn-перехода

5.3 Влияние генерационно-рекомбинационных процессов на вах pn-перехода.

5.4 Барьерная емкость pn-перехода

5.5 Диффузионная емкость pn-перехода

5.6 Пробой pn-перехода

5.6.1 Лавинный пробой pn-перехода

5.6.2 Туннельный (полевой, зинеровский) пробой pn-перехода

5.6.3 Тепловой пробой pn-перехода

5.7 Влияние сопротивления базы на вах pn-перехода. Полупроводниковый диод

5.8 Выпрямление на полупроводниковом диоде

5.8.2 Переходные процессы в полупроводниковых диодах

5.9 Полупроводниковые диоды

5.9.1 Выпрямительные диоды

5.9.2 Стабилитроны

5.9.3 Туннельные диоды

6 Биполярные транзисторы

6.1 Включение транзистора по схеме с общей базой

6.1.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенного по схеме с общей базой

6.1.2 Усиление транзистора, включенного по схеме с общей базой

6.2 Включение транзистора по схеме с общим эмиттером

6.2.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенные по схеме с общим эмиттером

6.3 Включение транзистора по схеме с общим коллектором

6.4. Дифференциальные параметры биполярного транзистора

6.4.1 Температурная зависимость параметров биполярных транзисторов

6.5 Работа транзистора в импульсном режиме

7 Тиристоры

7.1 Вольт-амперная характеристика тиристора

7.2 Типы тиристоров

8 Униполярные транзисторы

8.1 Полевой транзистор с управляющим pn- переходом (птуп)

8.1.1 Вольт-амперные характеристики птуп

Мдп–структура

1. Идеальная мдп-структура

2 Вольт-амперные характеристики мдп-транзистора

8.2.2 Схемы включения мдп-транзистора

4.2. Барьер на границе металла с полупроводником (барьер Шоттки)

4.2.1 Выпрямление тока на контакте металла с полупроводником

Фотоэлектрические полупроводниковые приборы

7.2. Полупроводниковые источники оптического излучения

10 Классификация интегральных микросхем

10.2 Условные обозначения микросхем

10.3 Элементы микросхем

10.4 Технология изготовления микросхем

10.4.1 Корпуса микросхем

.

(5.10)

В интервале объемный заряд положительныйи уравнение Пуассона запишется в виде:

.

(5.11)

Граничные условия:

,

.

(5.12)

Решения уравнений:

при ,

при.

(5.13)

При x=0 потенциал (рис. 5.2, е) и его производные непрерывны, поэтому ;. Получаем:. Следовательно, в обеих областях полупроводника, прилегающих кpn-переходу, объемные заряды равны. Это является условием электронейтральности.

Из (5.13) нетрудно получить следующие соотношения:

.

(5.14)

.

(5.15)

Отсюда

.

(5.16)

Из этой формулы следует, что чем выше степень легирования n- и p-областей полупроводника, тем меньше толщина ОПЗ. Если одна из областей легирована значительно сильнее другой, то большая часть падения потенциала при



5.2 Вольтамперная характеристика p-n-перехода

Рассмотрим теперь pn-переход, к которому приложено прямое смещение Vсм (минус батареи к n-типу, плюс – к p-типу). Для того чтобы описать вольт-амперные характеристики (ВАХ) pn-перехода допустим, что все приложенное внешнее напряжение падает на pn-переходе.

При прямом смещении высота потенциального барьера понижается на qVсм по сравнению с равновесным состоянием, соответственно изменяется и толщина ОПЗ:

.

(5.17)

Понижение потенциального барьера приводит к увеличению потока основных носителей заряда по сравнению с равновесным состоянием. Под действием диффузионных процессов основные носители (nn и pp) перемещаются в соседнюю область, становясь неосновными носителями (pn и np). Образовавшийся градиент концентрации неосновных носителей приводит к появлению диффузионных токов неосновных носителей заряда, он направлен от ОПЗ вглубь полупроводника (рис. 5.4). При этом направления диффузионных токов, создаваемых pn и np совпадают, в то время как их потоки направлены в разные стороны.

Ограничимся пока рассмотрением n-области pn-перехода. В n-области появившиеся неосновные носители (дырки) с концентрацией (рис. 5.4, а) создают в первый момент вблизи контакта положительный объемный заряд, однако через максвелловское время релаксации будет скомпенсирован объемным зарядом основные носителей заряда – электронов, которые под действием электрического поля, созданного избыточными дырками, будут подтянуты в количествеиз глубиныn-области, а в n-область электроны поступит из внешней цепи. Электроны будут двигаться за счет поля, создаваемого избыточными дырками и по свой природе является дрейфовым.

В состоянии термодинамического равновесия дрейфовый ток основных носителей должен компенсировать диффузионный ток неосновных носителей и суммарный ток через pn-переход равен нулю.

Рис. 5.4


Во всех частях электронного полупроводника будет соблюдаться электронейтральность, но в приконтактной области pn-перехода концентрация электронов и дырок будет повышена на =по сравнению с равновесным состоянием. Введение в полупроводник носителей заряда с помощьюpn-перехода при подаче на него прямого смещения в область, где это носители заряда являются неосновными, называют инжекцией. Теперь концентрация дырок в n-области вблизи контакта будет равна:

.

(5.18)

Для ее нахождения в стационарном случае на границе с ОПЗ (при x=Wn) нужно в (5.5) место qφк использовать значение qк-Vсм).

,

(5.19)

Таким образом, концентрация неосновных носителей в низколегированной области (базе) зависит от концентрации носителей в высоколегированной области (эмиттере) и от напряжения смещения, приложенного к pn-переходу (рис.5.5).

Рис. 5.5

Из (5.19) следует, что концентрация избыточных носителей в n-области при x=Wn равна:

.

(5.20)

Аналогичные явления происходят в p-области: сюда из n- области инжектируются электроны и концентрация избыточных электронов при x=-Wp составит:

.

(5.21)

Если к pn-переходу приложено обратное смещение (минус батареи к p-типу, плюс – к n-типу) (рис. 5.5, б), потенциальный барьер повышается на qVсм. Толщина слоя ОПЗ увеличивается:


.

(5.22)

Чем сильнее переход смещен в обратном направлении, тем выше потенциальный барьер, и тем меньшее количество основных носителей заряда способно преодолеть возросший потенциальный барьер. В соответствии с этим количество неосновных носителей заряда в приконтактной области уменьшается по сравнению с равновесным состоянием, следовательно, уменьшается и количество основных носителей заряда вследствие соблюдения электронейтральности. Это явление носит название экстракции носителей заряда.

Таким образом, при обратном смещении pn-перехода ток основных носителей заряда будет меньше, чем при равновесном состоянии, а ток неосновных носителей заряда практически не изменится. Поэтому суммарный ток через pn-переход будет направлен от n-области к p-области и с увеличением обратного напряжения вначале будет незначительно расти, а затем стремиться к некоторой величине, называемой током насыщения Js.

Для аналитического расчета ВАХ pn-перехода примем следующие допущения:

  1. Модель электронно-дырочного перехода одномерная; p- и n-области имеют бесконечную протяженность.

  2. Переход тонкий, носители заряда пролетают через ОПЗ без рекомбинации (ОПЗ стянут в линию).

  3. Обе квазинейтральные области сильно легированы, падением напряжения на них можно пренебречь. Вся внешняя разность потенциалов приложена к pn-переходу.

  4. Рекомбинацию считаем линейной.

  5. Уровень инжекции мал (Δnp<<pp0, Δp<< nn0).

Чтобы рассчитать ВАХ pn-перехода, нужно найти закон изменения концентрации свободных носителей заряда в p- и n- областях. Для этого необходимо решить уравнения непрерывности:

(5.23)

(5.24)

Для любых полей плотность полного тока дырок и электронов, определяющаяся дрейфовыми и диффузионными составляющими, будет равна: