ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 29.04.2025
Просмотров: 9673
Скачиваний: 0
СОДЕРЖАНИЕ
1 Движение электрона в кристалле. Уравнение Шрёдингера, волновая функция
1.2 Движение электронов в атоме
1.3 Зонная теория твердого тела
Глава 2. Электропроводность полупроводников
2.1 Собственные и легированные полупроводники. Уравнение электронейтральности
2.2 Статистика электронов и дырок
2.2.1 Заполнение электронами зон вырожденного полупроводника
2.2.1 Заполнение электронами и дырками зон невырожденного полупроводника
2.2 Положение уровня Ферми и расчет концентрации носителей
2.3 Электропроводность полупроводников
2.3.1 Электронная проводимость
2.3.3 Собственная проводимость
Глава 3. Неравновесные электронные процессы
3.4 Диффузионный и дрейфовый токи
3.2. Неравновесные носители в электрическом поле
3.2.1. Уравнение непрерывности тока
5 Контакт электронного и дырочного полупроводников
5.1 Возникновение потенциального барьера. Контактная разность потенциалов.
5.2 Вольтамперная характеристика p-n-перехода
5.3 Температурные зависимости вах pn-перехода
5.3 Влияние генерационно-рекомбинационных процессов на вах pn-перехода.
5.4 Барьерная емкость pn-перехода
5.5 Диффузионная емкость pn-перехода
5.6.1 Лавинный пробой pn-перехода
5.6.2 Туннельный (полевой, зинеровский) пробой pn-перехода
5.6.3 Тепловой пробой pn-перехода
5.7 Влияние сопротивления базы на вах pn-перехода. Полупроводниковый диод
5.8 Выпрямление на полупроводниковом диоде
5.8.2 Переходные процессы в полупроводниковых диодах
6.1 Включение транзистора по схеме с общей базой
6.1.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенного по схеме с общей базой
6.1.2 Усиление транзистора, включенного по схеме с общей базой
6.2 Включение транзистора по схеме с общим эмиттером
6.2.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенные по схеме с общим эмиттером
6.3 Включение транзистора по схеме с общим коллектором
6.4. Дифференциальные параметры биполярного транзистора
6.4.1 Температурная зависимость параметров биполярных транзисторов
6.5 Работа транзистора в импульсном режиме
7.1 Вольт-амперная характеристика тиристора
8.1 Полевой транзистор с управляющим pn- переходом (птуп)
8.1.1 Вольт-амперные характеристики птуп
2 Вольт-амперные характеристики мдп-транзистора
8.2.2 Схемы включения мдп-транзистора
4.2. Барьер на границе металла с полупроводником (барьер Шоттки)
4.2.1 Выпрямление тока на контакте металла с полупроводником
Фотоэлектрические полупроводниковые приборы
7.2. Полупроводниковые источники оптического излучения
10 Классификация интегральных микросхем
10.2 Условные обозначения микросхем
|
|
(5.10) |
В
интервале
объемный заряд положительный
и уравнение Пуассона запишется в виде:
|
|
(5.11) |
Граничные условия:
|
|
(5.12) |
Решения уравнений:
|
при
при |
(5.13) |
При
x=0
потенциал (рис. 5.2, е) и его производные
непрерывны, поэтому
;
.
Получаем:
.
Следовательно, в обеих областях
полупроводника, прилегающих кpn-переходу,
объемные заряды равны. Это является
условием
электронейтральности.
Из (5.13) нетрудно получить следующие соотношения:
|
|
(5.14) |
|
|
(5.15) |
Отсюда
|
|
(5.16) |
Из этой формулы следует, что чем выше степень легирования n- и p-областей полупроводника, тем меньше толщина ОПЗ. Если одна из областей легирована значительно сильнее другой, то большая часть падения потенциала при
5.2 Вольтамперная характеристика p-n-перехода
Рассмотрим теперь pn-переход, к которому приложено прямое смещение Vсм (минус батареи к n-типу, плюс – к p-типу). Для того чтобы описать вольт-амперные характеристики (ВАХ) pn-перехода допустим, что все приложенное внешнее напряжение падает на pn-переходе.
При прямом смещении высота потенциального барьера понижается на qVсм по сравнению с равновесным состоянием, соответственно изменяется и толщина ОПЗ:
|
|
(5.17) |
Понижение потенциального барьера приводит к увеличению потока основных носителей заряда по сравнению с равновесным состоянием. Под действием диффузионных процессов основные носители (nn и pp) перемещаются в соседнюю область, становясь неосновными носителями (pn и np). Образовавшийся градиент концентрации неосновных носителей приводит к появлению диффузионных токов неосновных носителей заряда, он направлен от ОПЗ вглубь полупроводника (рис. 5.4). При этом направления диффузионных токов, создаваемых pn и np совпадают, в то время как их потоки направлены в разные стороны.
Ограничимся
пока рассмотрением n-области
pn-перехода.
В n-области
появившиеся неосновные носители (дырки)
с концентрацией
(рис. 5.4, а) создают в первый момент вблизи
контакта положительный объемный заряд,
однако через максвелловское время
релаксации будет скомпенсирован объемным
зарядом основные носителей заряда –
электронов, которые под действием
электрического поля, созданного
избыточными дырками, будут подтянуты
в количестве
из глубиныn-области,
а в n-область
электроны поступит из внешней цепи.
Электроны будут двигаться за счет поля,
создаваемого избыточными дырками и по
свой природе является дрейфовым.
В состоянии термодинамического равновесия дрейфовый ток основных носителей должен компенсировать диффузионный ток неосновных носителей и суммарный ток через pn-переход равен нулю.
|
Рис. 5.4 |
Во
всех частях электронного полупроводника
будет соблюдаться электронейтральность,
но в приконтактной области pn-перехода
концентрация электронов и дырок будет
повышена на
=
по сравнению с равновесным состоянием.
Введение в полупроводник носителей
заряда с помощьюpn-перехода
при подаче на него прямого смещения в
область, где это носители заряда являются
неосновными, называют инжекцией.
Теперь концентрация дырок в n-области
вблизи контакта будет равна:
|
|
(5.18) |
Для ее нахождения в стационарном случае на границе с ОПЗ (при x=Wn) нужно в (5.5) место qφк использовать значение q(φк-Vсм).
|
|
(5.19) |
Таким образом, концентрация неосновных носителей в низколегированной области (базе) зависит от концентрации носителей в высоколегированной области (эмиттере) и от напряжения смещения, приложенного к pn-переходу (рис.5.5).
|
Рис. 5.5 |
Из (5.19) следует, что концентрация избыточных носителей в n-области при x=Wn равна:
|
|
(5.20) |
Аналогичные явления происходят в p-области: сюда из n- области инжектируются электроны и концентрация избыточных электронов при x=-Wp составит:
|
|
(5.21) |
Если к pn-переходу приложено обратное смещение (минус батареи к p-типу, плюс – к n-типу) (рис. 5.5, б), потенциальный барьер повышается на qVсм. Толщина слоя ОПЗ увеличивается:
|
|
(5.22) |
Чем сильнее переход смещен в обратном направлении, тем выше потенциальный барьер, и тем меньшее количество основных носителей заряда способно преодолеть возросший потенциальный барьер. В соответствии с этим количество неосновных носителей заряда в приконтактной области уменьшается по сравнению с равновесным состоянием, следовательно, уменьшается и количество основных носителей заряда вследствие соблюдения электронейтральности. Это явление носит название экстракции носителей заряда.
Таким образом, при обратном смещении pn-перехода ток основных носителей заряда будет меньше, чем при равновесном состоянии, а ток неосновных носителей заряда практически не изменится. Поэтому суммарный ток через pn-переход будет направлен от n-области к p-области и с увеличением обратного напряжения вначале будет незначительно расти, а затем стремиться к некоторой величине, называемой током насыщения Js.
Для аналитического расчета ВАХ pn-перехода примем следующие допущения:
Модель электронно-дырочного перехода одномерная; p- и n-области имеют бесконечную протяженность.
Переход тонкий, носители заряда пролетают через ОПЗ без рекомбинации (ОПЗ стянут в линию).
Обе квазинейтральные области сильно легированы, падением напряжения на них можно пренебречь. Вся внешняя разность потенциалов приложена к pn-переходу.
Рекомбинацию считаем линейной.
Уровень инжекции мал (Δnp<<pp0, Δp<< nn0).
Чтобы рассчитать ВАХ pn-перехода, нужно найти закон изменения концентрации свободных носителей заряда в p- и n- областях. Для этого необходимо решить уравнения непрерывности:
|
(5.23) |
|
|
(5.24) |
Для любых полей плотность полного тока дырок и электронов, определяющаяся дрейфовыми и диффузионными составляющими, будет равна:
.
.
,
.
,
.
.
.
.
.
.
,
.
.
.