ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 29.04.2025
Просмотров: 9612
Скачиваний: 0
СОДЕРЖАНИЕ
1 Движение электрона в кристалле. Уравнение Шрёдингера, волновая функция
1.2 Движение электронов в атоме
1.3 Зонная теория твердого тела
Глава 2. Электропроводность полупроводников
2.1 Собственные и легированные полупроводники. Уравнение электронейтральности
2.2 Статистика электронов и дырок
2.2.1 Заполнение электронами зон вырожденного полупроводника
2.2.1 Заполнение электронами и дырками зон невырожденного полупроводника
2.2 Положение уровня Ферми и расчет концентрации носителей
2.3 Электропроводность полупроводников
2.3.1 Электронная проводимость
2.3.3 Собственная проводимость
Глава 3. Неравновесные электронные процессы
3.4 Диффузионный и дрейфовый токи
3.2. Неравновесные носители в электрическом поле
3.2.1. Уравнение непрерывности тока
5 Контакт электронного и дырочного полупроводников
5.1 Возникновение потенциального барьера. Контактная разность потенциалов.
5.2 Вольтамперная характеристика p-n-перехода
5.3 Температурные зависимости вах pn-перехода
5.3 Влияние генерационно-рекомбинационных процессов на вах pn-перехода.
5.4 Барьерная емкость pn-перехода
5.5 Диффузионная емкость pn-перехода
5.6.1 Лавинный пробой pn-перехода
5.6.2 Туннельный (полевой, зинеровский) пробой pn-перехода
5.6.3 Тепловой пробой pn-перехода
5.7 Влияние сопротивления базы на вах pn-перехода. Полупроводниковый диод
5.8 Выпрямление на полупроводниковом диоде
5.8.2 Переходные процессы в полупроводниковых диодах
6.1 Включение транзистора по схеме с общей базой
6.1.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенного по схеме с общей базой
6.1.2 Усиление транзистора, включенного по схеме с общей базой
6.2 Включение транзистора по схеме с общим эмиттером
6.2.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенные по схеме с общим эмиттером
6.3 Включение транзистора по схеме с общим коллектором
6.4. Дифференциальные параметры биполярного транзистора
6.4.1 Температурная зависимость параметров биполярных транзисторов
6.5 Работа транзистора в импульсном режиме
7.1 Вольт-амперная характеристика тиристора
8.1 Полевой транзистор с управляющим pn- переходом (птуп)
8.1.1 Вольт-амперные характеристики птуп
2 Вольт-амперные характеристики мдп-транзистора
8.2.2 Схемы включения мдп-транзистора
4.2. Барьер на границе металла с полупроводником (барьер Шоттки)
4.2.1 Выпрямление тока на контакте металла с полупроводником
Фотоэлектрические полупроводниковые приборы
7.2. Полупроводниковые источники оптического излучения
10 Классификация интегральных микросхем
10.2 Условные обозначения микросхем
Вследствие двойной инжекции база транзистора очень сильно насыщается избыточными носителямими (электронами для npn-транзистора и дырками для pnp-транзистора), из-за чего усиливается их рекомбинация с основными носителями, и рекомбинационный ток базы оказывается значительно выше, чем в активном или инверсном режимах. Ток коллектора не обеспечивает отвод всех подходящих к коллектору инжектированных носителей заряда (говорят об ограничении тока коллектора).
В связи с насыщением базы транзистора и его переходов избыточными носителями заряда, их сопротивления становятся очень маленькими. Поэтому цепи, содержащие транзистор, находящийся в режиме насыщения, можно считать короткозамкнутыми, в этом режиме транзистор представляет собой эквипотенциальную точку.
В режиме отсечки (см. т. F на рис. 6.9) оба перехода транзистора находятся в закрытом состоянии.
|
Рис. 6.12 Оба перехода смещены в обратном направлении (режим отсечки) т. F |
Сквозные потоки электронов в режиме отсечки отсутствуют. Через переходы транзистора протекают потоки неосновных носителей заряда, создающие малые и неуправляемые тепловые токи переходов. База и переходы транзистора в режиме отсечки обеднены подвижными носителями заряда, в результате чего их сопротивления оказываются очень высокими. Поэтому считают, что транзистор, работающий в режиме отсечки, представляет собой разрыв цепи.
Режимы насыщения и отсечки используются при работе транзисторов в импульсных (ключевых) схемах.
Рассмотренные процессы инжекции и собирания носителей коллектором не зависят от схемы включения, соответственно, и рассмотренные режимы – будут иметь место и в каскадах с общим эмиттером и общим коллектором.
6.1.2 Усиление транзистора, включенного по схеме с общей базой
Согласно
выражению
,
= 0,95… 0,99, в схеме с ОБ усиление тока
отсутствует. Несмотря на это усиление
мощности существует, так как в усилительном
режиме (Uэ.б>0,
Uк.б<0)
выходное дифференциальное сопротивление
(
)много
больше входного дифференциального
сопротивления (
).
Таким образом, практически одинаковый
ток проходит и через высокое сопротивление
и через низкое, вследствие чего в схеме
с ОБ имеет место усиление мощности.
Из-за высокого выходного сопротивления в цепи коллектора может быть включено достаточно большое сопротивление нагрузки (RК на рис. 6.2) – до 1 МОм. Относительно малое изменение напряжения на эмиттере будет вызывать большое изменение напряжения на сопротивлении нагрузки. В результате различия входного и выходного сопротивлений транзистор дает усиление по мощности.
6.2 Включение транзистора по схеме с общим эмиттером
Схема включения биполярного транзистора с общим эмиттером приведена на рис. 6.13:
|
Лучше с землей и двумя источниками |
|
Рис. 6.13. Схема включения транзистора с общим эмиттером |
В транзисторе, включенном по схеме с общим эмиттером, имеет место усиление не только по напряжению, но и по току. Входными параметрами для схемы с общим эмиттером будут ток базы IБ, и напряжение на базе относительно эмиттера UБЭ, а выходными характеристиками будут ток коллектора IК и напряжение на коллекторе UКЭ. Для любых напряжений:
|
UКЭ=UКБ+UБЭ |
(6.36) |
Отличительной особенностью режима работы с ОЭ является одинаковая полярность напряжения смещения на входе (базе) и выходе (коллекторе): отрицательный потенциал в случае pnp-транзистора и положительный в случае npn-транзистора. При этом переход база-эмиттер смещается в прямом направлении, а переход база-коллектор – в обратном.
Ранее
при анализе биполярного транзистора в
схеме с общей базой была получена связь
между током коллектора и током эмиттера
в следующем виде:
.
В схеме с общим эмиттером для pnp-транзистора
(в соответствии с первым законом Кирхгофа)
(6.1):
,
отсюда получим:
|
|
(6.36) |
После перегруппирования сомножителей получаем:
|
|
(6.37) |
Коэффициент α/(1-α) называется коэффициентом усиления по току биполярного транзистора в схеме с общим эмиттером. Обозначим этот коэффициент знаком β, итак:
|
|
(6.38) |
Коэффициент передачи тока для транзистора, включенного по схеме с общим эмиттером β показывает, во сколько раз изменяется ток коллектора IК при изменении тока базы IБ. Поскольку величина коэффициента передачи α близка к единице (α<1), то из уравнения (6.38) следует, что коэффициент усиления β будет существенно больше единицы (β>>1). При значениях коэффициента передачи α=0,98÷0,99 коэффициент усиления тока базы будет лежать в диапазоне β=50÷100.
6.2.1 Статические вольт-амперные характеристики транзистора, включенные по схеме с общим эмиттером
Рассмотрим ВАХ pnp-транзистора в режиме ОЭ (рис. 6.13, 6.14).
|
Рис. 6.13. Выходные ВАХ ОЭ |
Рис. 6.14. Входные ВАХ ОЭ |
Входные ВАХ.
Рекомбинационный ток базы составляет часть тока эмиттера:
|
(6.36) |
При
UКЭ
=0
.
С увеличением напряженияUБЭ
концентрация
на переходе ЭБ растет
(рис. 6.15,а),
градиент концентрации инжектированных
дырок растет, диффузионный ток дырок,
как и в прямо смещенном pn-переходе,
растет экспоненциально (т. А) и отличается
от тока эмиттера только масштабом
(6.36).
При обратных напряжениях на коллекторе и фиксированном напряжении на ЭП |UБЭ| (рис. 6.15,б) постоянной будет и концентрация дырок в базе вблизи эмиттера. Увеличение напряжения UКЭ будет сопровождаться расширением ОПЗ коллекторного перехода и уменьшением ширины базы (эффект Эрли) и, следовательно, уменьшением общего количества дырок, находящихся в базе.
|
|
|
|
UКЭ=const, UБЭ – переменное |
UБЭ =const, UКЭ– переменное |
|
Рис. 6.15 Распределение неосновных носителей в базе pnp-транзистора при включении в схеме с ОЭ |
|
При
этом градиент концентрации дырок в базе
будут расти, что приводит к дальнейшему
уменьшению их концентрации. Поэтому
число рекомбинаций электронов и дырок
в базе в единицу времени уменьшается
(возрастает коэффициент переноса
).
Так как электроны для рекомбинации
приходят через базовый вывод, ток базы
уменьшается ивходные
ВАХ смещаются вниз.
При UБЭ=0 и отрицательном напряжении на коллекторе (Uкб<<0) ток через эмиттерный переход равен нулю, в базе транзистора концентрация дырок меньше равновесной, так как у КП эта концентрация равна нулю, а у ЭП ее величина определяется равновесным значением. Через коллекторный переход протекает ток экстрагированных из коллектора дырок IКЭ0.
В базе, как и в pn-переходе при обратном смещении, процесс тепловой генерации будет преобладать над процессом рекомбинации. Генерированные электроны уходят из базы через базовый вывод, что означает наличие электрического тока, направленного в базу транзистора (т. В). Это – режим отсечки, он характеризуется сменой направления тока базы.
Выходные ВАХ.
В
активном
режиме
(|UКЭ|>|UБЭ|>0)
поток инжектированных эмиттером дырок
p
экстрагируется коллекторным переходом
также, как и в режиме ОБ, с коэффициентом
.
Часть дырок(1-α)
p
рекомбинирует в базе в электронами,
поступающими из омического контакта
базы.
При увеличении тока базы отрицательный заряд электронов уменьшает потенциальный барьер эмиттерного перехода, вызывая дополнительную инжекцию дырок в базе.
Проанализируем, почему малые изменения тока базы IБ вызывают значительные изменения коллекторного тока IК. Значение коэффициента β, существенно большее единицы, означает, что коэффициент передачи α близок к единице. В этом случае коллекторный ток близок к эмиттерному току, а ток базы (по физической природе рекомбинационный) существенно меньше и коллекторного и эмиттерного тока. При значении коэффициента α = 0,99 из 100 дырок, инжектированных через эмиттерный переход, 99 экстрагируются через коллекторный переход, и лишь одна прорекомбинирует с электронами в базе и даст вклад в базовый ток.
Увеличение базового тока в два раза (должны прорекомбинировать две дырки) вызовет в два раза большую инжекцию через эмиттерный переход (должно инжектироваться 200 дырок) и соответственно экстракцию через коллекторный (экстрагируется 198 дырок). Таким образом, малое изменение базового тока, например, с 5 до 10 мкА, вызывает большие изменения коллекторного тока, соответственно с 500 мкА до 1000 мкА. Ток базы стократно вызывает увеличение тока коллектора.
По аналогии с (6.34) можно записать:
|
(6.37) |
Учитывая
(6.1):
,
получим:
|
|
(6.38) |
|
(6.39) |
Учитывая, что
|
|
(6.40) |
|
(6.41) |
.
.
.
а
б
.
,
а
